Бакалавр
Дипломные и курсовые на заказ

Разработка и исследование метода осаждения оптических покрытий с заданным распределением толщины

Диссертация: Разработка и исследование метода осаждения оптических покрытий с заданным распределением толщины
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Все вышесказанное делает проблему формирования слоев с заданным распределением толщины весьма актуальной, так как решение этой задачи необходимо при любом способе использования оптических покрытий. Как показано в данной работе, покрытие, нанесенное на искривленную поверхность, должно обязательно иметь асферический профиль уже для того, чтобы оно могло формировать спектральный состав… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА I. МЕТОДЫ НАНЕСЕНИЯ И КОНТРОЛЯ ОПТИЧЕСКИХ. ПОКРЫТИЙ
    • 1. 1. Способы формирования слоев осаждением в вакууме
    • 1. 2. Методы вакуумной асферизации
    • 1. 3. Контроль толщины тонких пленок в процессе осаждения
    • 1. 4. Контроль формы оптических асферических. .. поверхностей
    • 1. 5. Выводы
  • ГЛАВА 2. РАСЧЕТ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ,
  • ПОЛУЧАЕМЫХ ИСПАРЕНИЕМ В, ВАКУУМЕ
    • 2. 1. Постановка задачи
    • 2. 2. Распределение толщины слоя на поверхности. подложки, совершающей планетарное вращение
    • 2. 3. Распределение толщины слоя при использо-. вании испарителя, малых размеров
    • 2. 4. Расчет распределения толщины слоя на подложках, со сферической, формой поверхности. Обсуждение.. результатов
    • 2. 5. Выбор параметров подложки и геометрии вакуумной установки. дляздания поверхностей, заданной асферичностью
    • 2. 6. Упрощенный расчет профиля слоя планоидных асферических элементов, изготовленных при одинарт-.. ном вращении подложки
    • 2. 7. Выводы
  • ГЛАВА 3. ОПТИМИЗАЦИЯ ФОРМЫ ПРИЕМНОЙ ПОВЕРХНОСТИ. ПРИ. МАССОВОМ ИЗГОТОВЛЕНИИ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМ
    • 3. 1. Связь между формой приемной поверхности и геометрией испарительной установки при осаждении равнотолщинных слоев
    • 3. 2. Определение оптимальной формы приемной поверхности при испарении из точечного и. плоского испарителя
    • 3. 3. Выводы
  • ГЛАВА 4. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ ПЕРЕМЕННОЙ ТОЛЩИНЫ
    • 4. 1. Экспериментальная вакуумная установка
    • 4. 2. Особенности формирования диэлектрических. покрытий
    • 4. 3. Исследование металло-диэлектрических асферизующих систем
    • 4. 4. Антиотражательные фильтры с бесконечной контрастностью
    • 4. 5. Выводы

Разработка и исследование метода осаждения оптических покрытий с заданным распределением толщины (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Диссертационная работа относится к области оптики тонкослойных покрытий и посвящена разработке и исследованию методов формирования покрытий с заданным распределением толщины слоя по поверхности подложки.

Расширение фронта исследований в области тонких пленок связано в первую очередь с их успешным применением при решении многих технических задач. Среди сравнительно новых областей применения тонкослойных покрытий можно назвать микроэлектронику, где на основе тонких пленок изготавливаются активные и пассивные элементы электрических цепей, вычислительную технику с тонкопленочными магнитными и проводящими элементами, авиацию и космонавтику, где используются специальные покрытия, регулирующие температуру корабля в полете, интегральную оптику.

Одной из традиционных областей применения тонкопленочных покрытий является оптика. Так, исторически первым, нашедшим широкое применение свойством тонких пленок, было обнаруженное Тейлором и объясненное в 30-е годы Бауэром и Стронгом, явление просветления тонкой пленкой оптических поверхностей. В последующие годы на основе тонкопленочных покрытий были разработаны многочисленные оптические элементы, обладающие различными полезными свойствами. К числу таких элементов относятся зеркала, светои спектроделители, поляризаторы, узкополосные интерференционные фильтры, работающие в отражении и пропускании. Создание зеркал с высоким коэффициентом отражения в широкой области спектра позволило решать задачу поиска новых генерирующих переходов без перестройки лазерного резонатора.

К настоящему времени наибольшее распространение в оптической технологии получили тонкослойные системы на основе диэлектрических пленок, имеющих малое поглощение. Применение таких покрытий позволило осуществить на практике генерацию в газовых средах с малым коэффициентом усиления, реализовать узкополосные фильтры с малой полушириной полосы пропускания (единицы Ангстрем) и зеркала с коэффициентом отражения Л > 99,8 $, обладающие повышенной световой прочностью.

Одним из интересных и крайне важных для практики свойств тонкопленочных покрытий является свойство формировать волновой фронт излучения. Подобные покрытия могут быть использованы для исправления аберраций оптических элементов и систем, изготовления длиннофокусных линз и зеркал, создания элементов с заданным фронтом световой волны (компенсаторов) и т. д. Для решения указанной задачи необходимо применение покрытий, толщина которых имеет заданное распределение по поверхности подложки. При этом в качестве базовых поверхностей для осаждения неравнотолщинных слоев служат плоскости или сферы, точное изготовление которых в настоящее время освоено оптической промышленностью. Слои, имеющие толщину, переменную по поверхности подложки, получили название асферизующих, так как хотя бы одна поверхность слоя в этом случае отлична от сферы или плоскости.

Асферизация нанесением дополнительного слоя вещества в высоком вакууме была предложена в 1936 году Стронгом и Гавиола, которые применили этот метод для изготовления параболических отражателей. Работы, выполненные в последующие годы, в основном были направлены на совершенствование технологии нанесения асферизующих слоев. Таким образом, к настоящему времени известно достаточно большое количество полезных свойств тонкослойных оптических покрытий. Среди методов изготовления тонких пленок в оптической технологии наибольшее распространение получили методы испарения вещества в высоком и сверхвысоком вакууме. При этом разогрев испаряемого вещества осуществляется термическим или радиационным способами, мощной электронной бомбардировкой или воздействием лазерного излучения. Отечественная промышленность, а также ведущие в вакуумной технологии зарубежные фирмы в настоящее время выпускают производительные установки, позволяющие изготавливать оптические покрытия различного целевого назначения.

В зависимости от своего функционального назначения покрытия, нанесенные на поверхность оптических деталей, должны иметь различное распределение толщины. Так, например, для формирования качественных спектральных характеристик узкополосных интерференционных фильтров типа § абри-Перо вариация толщины слоя на поверхности подложки не должна превышать 0,01 — 0,05%• В случае сравнительно широкополосных систем (четвертьволновые зеркала, однослойное просветляющее покрытие) требования к равнотолщиннос-ти покрытия значительно ниже, однако и в этих случаях слишком большой разброс толщины покрытий в различных зонах подложки приводит к невозможности реализации расчетных оптических характеристик.

При изготовлении неравнотолщинных (асферизующих) слоев точность воспроизведения, профиля для ответственных деталей должна составлять. При этом функции распределения толщины слоя могут отличаться большим разнообразием.

Все вышесказанное делает проблему формирования слоев с заданным распределением толщины весьма актуальной, так как решение этой задачи необходимо при любом способе использования оптических покрытий. Как показано в данной работе, покрытие, нанесенное на искривленную поверхность, должно обязательно иметь асферический профиль уже для того, чтобы оно могло формировать спектральный состав и энергетические характеристики излучения. Естествен-но?асферизующие свойства покрытия приводят и к формированию фронта волны, которое должно учитываться при аберрационном расчете оптического элемента. Исключение составляют оптические поверхности, форма которых совпадает с формой фронта падающей волны. В этом случае покрытие должно иметь толщину, постоянную по поверхности подложки. При этом следует отметить, что имеющиеся к настоящему времени способы управления профилем осаждающихся покрытий (например, при помощи маеок-экранов) не являются удовлетворительными по воспроизводимости, точности и производительности, что делает необходимым поиск других, более эффективных способов получения покрытий с заданными геометрическими свойствами.

В диссертационной работе проводится расчет условий осаждения пленок, обладающих заданным распределением толщины, на подложках с произвольной формой поверхности. Для расчета была выбрана наиболее производительная компоновка вакуумной системы (испарение из источника больших размеров на группу подложек, совершающих планетарное вращение). Особое значение при решении указанной задачи имеет доказательство соответствия расчету эмиссионной характеристики реального испарителя, а также ее стабильности. Так как в современной литературе по этому поводу высказываются весьма разноречивые суждения, в диссертационной работе поставлены эксперименты по изучению процессов, происходящих при осаждении слоев. Забегая вперед, укажем, что полученные результаты позволяют однозначно ответить на вопросы, связанные со стабильностью и воспроизводимостью эмиссионной характеристики испарителя. Естественно, изучение процессов формирования тонкослойных покрытий заданного профиля, а также разработка методики их получения в воспроизводимых условиях, тесно связаны с необходимостыо проведения контроля оптических и геометрических параметров получаемых слоев. Поэтому в предлагаемой работе достаточно большое внимание уделено выбору оптимальных с точки зрения простоты и точности средств контроля профиля тонкопленочных покрытий.

Из изложенного следует, что диссертационная работа посвящена разработке методики получения и исследованию оптических пок рытий, обладающих заданным распределением толщины по поверхности подложки, обеспечивающих формирование как спектральных и энергетических, так и волновых характеристик излучения.

Основные результаты диссертационной работы следующие:

1. Впервые получены соотношения, описывающие функциональную зависимость толщины слоев, осажденных на подложке с произвольной формой поверхности, испытывающей планетарное вращение, при осаждении вещества в вакууме.

2. Теоретически исследованы случаи плоского испарителя больших размеров и испарителя в виде элементарной площадки.

3. Проведены расчеты распределения толщины на плоских и сферических подложках для различных условий осаждения. Выяснена возможность пренебрежения размерами испарителя в реальных условиях осаждения.

4. Проведена оптимизация взаимного расположения испарителя и подложек с целью получения слоев с высокой степенью постоянства толщины.

5. Разработаны аналитические методы оптимизации формы приемной поверхности для получения идентичных равнотолщинных слоев на максимальном числе подложек одновременно. Получены ранее неизвестные решения, позволившие спроектировать и внедрить подложкодержатели, повышающие производительность вакуумных установок в 2 раза.

6. Проведены расчеты условий осаждения слоев переменной толщины для проведения вакуумной, асферизации оптических поверхностей. Показана возможность получения высокоточных асферических элементов.

7. Практически реализованы неравнотолщинные просветляющие покрытия для сверхширокоугольных объективов, позволяющие ликвидировать блики по всему полю зрения, а также уменьшить аберрации объективов.

8. Разработаны многослойные интерференционные системы для изготовления асферических отражателей. Показано, что за счет применения металлических пленок и, соответственно, уменьшения неравномерности температурного поля на поверхности подложки, возможно увеличение точности воспроизведения асферической поверхности.

9. Разработана и внедрена спектрофотометрическая методика контроля профиля покрытий с заданным распределением толщины. Разработанные металло-диэлектрические фильтры для асферизации позволяют увеличить точность контроля в десятки раз.

10. Практически реализованы асферизующие многослойные системы, общей толщиной 50 — 55 мкм.

11. Разработаны и изготовлены элементы подколпачной оснастки, обеспечивающей проведение экспериментов по асферизации. Сконструированы узлы измерительной установки.

12. Все разделы диссертационной работы имеют соответствующее программное обеспечение для расчетов как на больших ЭЦВМ (типа ЕС, БЭСМ-б), так и на клавишных машинах малой мощности.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Л.М., Лавренюк С. Ю. Тепловые режимы подложек при напылении пленочных покрытий. — «Физика и химия обработки материалов», М., «Наука», 1981, № 2, с. 21−25.
  2. В.Ф. К методике расчета масок для изготовления от-тенителей на оптических поверхностях вращения сложного профиля способом вакуумного испарения. «Оптические приборы», Сборник трудов ВЗМИ. М., 1972, с. 8−17.
  3. К.Г. Методы контроля и измерения толщины пленок и способы получения пленок, однородных по толщине. В кн. «Физика тонких пленок», М., «Мир», 1968, т. З, с.7−57.
  4. М., Вольф Э. Основы оптики. М., «Наука», 1970, 856 с.
  5. К.И. О распределении плотности потока эмиссии от поверхностных косинусных эмитеров на гладких поверхностях. -«Физика и химия обработки материалов», М., «Наука», 1982, № 3, с. 77−80.
  6. Л.А. Теневые методы. М., «Наука», 1968, 400 с.
  7. В.Б., Тихонов А. Н., Тихонравов A.B. О синтезе многослойных покрытий. «Журнал вычислительной математики и математической. физики», 1974, т.14, № 1, с. 135−144.
  8. Г. И., Клочков A.M., Шапочкин Б. А., Белозерова Т. И., Афанасьев К. Н. Способ получения асферических поверхностей. Авт. свидетельство № 585 133, класс С 03 С 17/30. «Открытия, изобретения, промышленные образцы, товарные знаки», 1977,№ 47.
  9. В.В., Колчев B.C., Плотников B.C. Способ изготовления асферических поверхностей оптических деталей. Авт. свидетельство № 300 538, класс С 23 С 13/08. «Открытия, изобретения, промышленные образцы, товарные знаки», 1971, № 13.
  10. В.В., Колчев B.C., Плотников B.C. Установка для изготовления асферических поверхностей оптических деталей. Авт. свидетельство № 300 539, класс С 23 С 13/08. «Открытия, изобретения, промышленные образцы, товарные знаки»,'1971, № 13.
  11. Р.У. Механические свойства тонких конденсированных пленок. В кн. «Физика тонких пленок», М., «Мир», 1968, т. З, с. 225−298.
  12. И.С., Рыжик И. М. Таблицы интегралов, сумм, рядов и произведений. М., «Наука», 1971,1108 с.
  13. А.Д., Егоров В.Н.,-Клоков Ю.К., Маликов С. Н., Пантелеев Г .В., Пацкевич H.H., Ямпольский В. И. Оптимизация условий напыления оптических покрытий. «Оптико-механическая промышленность», 1981, № 8, с. 53−57.
  14. И.И. Контроль асферических поверхностей с небольшим отклонением, от сферы. «Оптико-механическая промышленность', 1964, № 1,.с. 24−28.
  15. И.И., Качкин С. С., Чунин Б. А. Изготовление и методы контроля асферических поверхностей. Л., „Машиностроение“, 1975,.86 с.
  16. И.И., Константиновская Н. В., Федина Л. Г. Методыконтроля формы асферических поверхностей вращения. „Опти-¦ ко-механичеекая промышленность“, 1975, № 7, с. 64−74. .
  17. В.Н., Клоков Ю. К., Маликов С. Н., Пантелеев Г. В. Повышение равномерности толщины вакуумных покрытий по поверхности детали. „Оптико-механическая промышленность“, 1950, № 4, с. 52−53.
  18. А.Г., Милованов Н. П. Устройство контроля волновых фронтов. Авт. свидетельство № 788 481, класс (т 01 В 11/02. -„Открытия, изобретения, промышленные образцы, товарные знаки“, 1981, № 3.
  19. А.Г., Парчевский С. Г., Путилин Э. С., Эльснер З. Н. Границы сосуществования отражения и формирования волнового фронта диэлектрическими зеркалами. „Оптика и спектроскопия“, 1977, т.43, вып. 2, с. 283−287.
  20. А.Г., Путилин Э. С. Оптимальные условия формирования однородных тонких слоев. „Оптико-механическая промышленность“, 1971, № 9, с. 46−49.
  21. А.Г., Путилин Э. С. Формирование волнового фронтас помощью интерференционных покрытий. „Оптика и спектроскопия“, 1972, т.32, с. II76-II78.
  22. А.Г., Путилин Э. С. Широкополосные диэлектрические зеркала. „Журнал прикладной спектроскопии“, 1969, т. Ю, № 6, с. III3-III7.
  23. А.Г., Путилин Э. С., Эльснер З. Н. Расчет и реализация широкополосных полупрозрачных зеркал. „Оптика и спектроскопия“, 1971, т.31, с. 419−423. .
  24. А.Д., Кацнельсон А. Б., Староверов Г. И., Фурман Ш. А. Автомат для контроля.толщин-пленок в процессе изготовления многослойных покрытий., — „Оптико-механическая промышленность“, 1973, № 5, с. 36−39.
  25. Н.П., Горелик В. В. Изготовление асферической оптики. М., „Машиностроение“, 1978, 248 с.
  26. Н.П., Шапочкин Б. А., Кузичев В. И., Горелик В. В. Изготовление асферических поверхностей оптических деталей, -„Известия вузов. Геодезия и аэрофотосъемка“, 1967, вып. 5, с. I5I-I57.
  27. Н. Волоконная оптика. М., „Мир“, 1969, 464 с.
  28. П.Г. Анализ и синтез многослойных интерференционных пленок. Таллин, „Валгус“, 1971, 236 с.
  29. Л.Б. Методы контроля оптической толщины интерференционных пленок, наносимых в вакууме. „Оптико-механическая промышленность“, 1969, № 4, с. 50−58.
  30. В.К. Методы исследования пятна рассеяния оптической системы. „Оптико-механическая промышленность“, 1932, № 5, с. 50−57.
  31. В.И., Хомякова Ф. Т., Чариков A.B. Расчет толщины слоя при нанесении покрытий в вакууме. „Оптико-механическая промышленность“, 1981, № 10, с. 45−48.
  32. .М., Чудакова В. А. Контроль формы асферических поверхностей с помощью лазерного интерферометра. „Оптико-механическая промышленность“, 1981, № 10, с. 33−36.
  33. Г., Корн Т. Справочник по математике. М., „Наука“, 1974, 831 с.. .
  34. Королев §-.А., Клементьева АЛО., Мещерякова Т. Ф. Многослойные интерференционные диэлектрические светофильтры для видимой и ближней инфракрасной области спектра. „Инженерно-физический журнал“, i960, № 1, с. 55−61.
  35. Д., Дейчер К., Гиршберг К. Интерференционные фотокатоды. В кн. „Физика тонких пленок“, М., „Мир“, 1972, т.5, с. 7−45. .
  36. Г. В. Пуряев Д.Т. Исследование и контроль оптических систем. М., „Машиностроение“, 1978, 224 с.
  37. Крылова Т. Н. Интерференционные покрытия. Л., „Машиностроение“, 1973, 224 с.
  38. И.Ф. Новый метод изготовления несферических поверхностей высших порядков для коррекции оптических систем. -„Техника телевидения“, 1954, № 2, с. 45−47.
  39. В.И. Искажение профиля поверхности при вакуумной асферизации. Труды МВТУ им. Баумана „Оптические и оптико-злектронные приборы“, М., Оборонгиз, 1962, № 110, с. II8-I28.
  40. В.И. Особенности технологии изготовления высокоточных асферических поверхностей методом вакуумной асферизации. „Оптико-механическая промышленность“, 1965, № 9,с. 36−40.
  41. М.А., Шабат Б. В. Методы теории функций комплексного переменного. М., „Наука“, 1973, 736 с.
  42. Н.Т., Лукин A.B., Рафиков P.A. Голографический контроль асферических поверхностей. „Оптико-механическая промышленность“, 1979, № 4, с. 35−38.
  43. .А., Шкляревский И. И. Дисперсия коэффициента отражения и фазового сдвига антиотражающего многослойника. -„Курнал прикладной спектроскопии“, 1969, т. П, вып. 4, с. 19−23.
  44. С. Тонкие пленки, их.изготовление и измерение. М., Л., Госэнергоиздат, 1963, 272 с.
  45. И.Е., Балаков A.B. Басяева Л. И. Вакуумные установки для получения оптических покрытий. „Оптико-механическая промышленность“, 1976, № 10, с. 43−45.
  46. Отражающая защитная пленка, содержащая асферический слой. Патент США № 4 261 645, класс (г 02 В 1/10, 1981.
  47. Г. В., Черенков М. Г., Шафиркин Б. В., Ямпольский В. И., Егоров В. Н. Особенности нанесения покрытий методом электронно-лучевого испарения. „Оптико-механическая промышленность1,' 1983, 1Г°9, с. 30−32.
  48. Г. В., Ямпольский В. И., Егоров В. Н. Оптимальные условия напыления однородных по толщине пленок. „Оптико-механическая промышленность“, 1978, № 2, с. 27−29.
  49. Г. В., Ямпольский В. И., Егоров В. Н., Моршаков В. В. Функция распределения плотности газового потока электроннолучевого испарителя. „Оптико-механическая промышленность',' 1982, № 5, с. 42−44.. .
  50. Н.И., Мыльников B.C. Лазерное напыление многослой-. ных покрытий. „Оптико-механическая промышленность“,'1980, № 2, с. 47−49.
  51. Г. Т. Метод и прибор для измерения оптических толщин слоев веществ, изготавливаемых напылением в вакууме."Оптико-механическая промышленность“, 1965, № 6, с. 33−37.
  52. Д.Т. Контроль асферических поверхностей вращения, второго порядка на.интерферометре Тваймана. „Изв.высш.учебных заведений СССР. Приборостроение „т.%, 1967, № 6, с.99--101. .
  53. Д.Т. 0 контроле асферических поверхностей вращения . ., второго порядка, изготовленных методом вакуумной асферизации. „Оптико-механическая промышленность“, 1967, № 11, с.69−72.
  54. Д.Т. Применение коррекционных пластин, изготовленных методой вакуумной асферизации, для контроля асферических поверхностей. „Оптико-механическая промышленность“, 1971, № 10, с. 45−48.
  55. Д.Т. Методы контроля оптических асферических поверхностей. М., „Машиностроение“, 1976, 262 с.
  56. Д.Т., Савостин Т. Д. Интерферометр для контроля толщин слоев в процессе вакуумной асферизации оптических деталей. „Оптико-механическая промышленность“, 1973, № 3, с. 21−24.
  57. Э.С. Исследование многослойных интерференционных систем. Кандидатская диссертация, ЛГУ, 1972.
  58. М.М. Несферические поверхности в оптике. Расчет,. изготовление и контроль. М., „Недра“, 1973, 296 с.
  59. A.A. Плоские кривые. М., §-изматгиз, i960, 293 с.
  60. А.Д., Сальников Ю. В. Автоматизированный контроль асферических поверхностей. Межвузовский сборник „Прогрессивные методы изготовления и контроля современных оптических и оптико-электронных приборов“, Новосибирск, НИИГАиК, 1982, с. 34−38.. .
  61. В.Н., Шапочкин Б. А. Маска для напыления. Авт. свидетельство № 576 790, класс С 23 С 13/08. „Открытия, изобретения, промышленные образцы, товарные знаки“, 1977, № 33“
  62. В.И. Контрольная установка для изготовления диэлектрических интерференционных светофильтров. „Оптико-механическая промышленность“, i960, № 5, с. 17−18.
  63. Дж. Техника физического эксперимента. „Лениздат“, 1948.
  64. А. Конструирование многослойных интерференционных светофильтров. В кн. „Физика тонких пленок“, М., „Мир“, 1972, т.5, с. 46−83.
  65. Технология тонких пленок. Справочник под ред. Л. Майсела, Р. Гленга. М.“ „Советское радио“, 1977, т.1, 662 с.
  66. Технология тонких пленок. Справочник под ред. Л. Майсела, Р. Гленга. М., „Советское радио“, 1977, т.2, 764 с.
  67. A.B., Клементьева А. Ю. О синтезе многослойных непоглощающих покрытий. „Журнал прикладной спектроскопии“, 1973, т.19, с. 566.
  68. H.A. Применение в оптических системах асферических поверхностей, малоотличающихся от сферы. Труды МВТУ им. Баумана. „Расчеты оптических систем“, Оборонгиз, 1961, № 102, е.5−34.. .
  69. Ш. А. Тонкослойные оптические покрытия. Л., „Машиностроение“, 1977, 264 с.
  70. Ш. А., Левина М. Д. Изменение топографии оптических характеристик интерференционного покрытия. „Оптико-механическая промышленность“, 1976, № 12, с. 35−37.
  71. Дж., Гюнтер В. Р. Новые разработки вакуумных ультра- . фиолетовых отражающих покрытий для космической астрономии. В кн. „Космическая оптика“, М., „Машиностроение“, 1980, с. 340−360.
  72. Л. Нанесение тонких пленок в вакууме. М. Л., Госэнергоиздат, 1963, 608 с.
  73. В.Е. Последние достижения в области оптического контроля больших оптических телескопов. В кн. „Космическая оптика“, М., „Машиностроение“, 1980, с. 156−168.
  74. .А. Фотографический объектив с асферическими поверхностями. Тезисы доклада на Межвузовской конференции, МВТУ, 1959, с. 65−67.
  75. .А. Вакуумная асферизация. „Оптико-механическая промышленность“, 1960, № 6, с. 41−43.
  76. .А. Асферизация нанесением дополнительного слоя вещества в вакууме. Труды МВТУ им. Баумана „Расчеты.оптических систем“, М., Оборонгиз, 1961, № 102, с. 43−49.
  77. .А. Интерференционный способ контроля толщины прозрачных слоев. Авт. свидетельство № 172 085, классу 02 &. „Изобретения, промышленные образцы, товарные знаки“, 1965, № 12.
  78. .А. Об интерференционном способе контроля толщины прозрачных слоев на поверхностях относительно большой кривизны. „Известия вузов. Приборостроение“, 1966, № 4, с. 121−125.
  79. .А. Линза. Авт. свидетельство № 184 475, класс22И, 1/01. „Изобретения, промышленные образцы, товарные знаки“, 1966, № 15.
  80. .А. Исправление аберраций с помощью прозрачных слоев переменной толщины. „Известия.вузов. Геодезия и аэрофотосъемка“, 1968, № 2, с. 119−122.
  81. .А. Выбор базовой сферы для асферизации. г „Из-. вестия вузов. Приборостроение“, 1971, т. Х1У, № 5, с. 95−98.
  82. .А. Использование диафрагм для перераспределения освещенности на экране. Труды МВТУ им. Баумана, М., 1975, № 180, с. 90−97.
  83. .А., Клочков A.M., Комраков Б. М. Прямой способ контроля асферизующих слоев в процессе их получения. -„Оптико-механическая промышленность“, 1976, № 6, с, 67−68.
  84. .А., Комраков Б. М. Интерференционное устройство для контроля оптических поверхностей. Авт. свидетельство № 530 169, класс (т 01 В 9/02. „Открытия, изобретения, промышленные образцы, товарные знаки“, 1976, № 36.
  85. .А., Кузичев В. И. Расчет масок для изготовления асферических поверхностей нанесением дополнительного.слоя вещества в вакууме. Труды МВТУ им. Баумана „Расчеты.оптических систем“, М., Оборонгиз, 1961, № 102, с. 50−60.
  86. .А., Кузичев В. И. Пространственное распределение молекулярных пучков сульфида цинка. Сборник докладов „Технология изготовления и контроль асферических поверхностей“, М., 1968, с. 60−69.
  87. .А., Кузичев В. И., Сергеев В. Н. Экранирование молекулярных пучков.при вакуумной аеферизации. Труды МВТУ им. Баумана, М., 1967, № 123, с. 139−143.
  88. .А., Сергеев В. Н. Распределение конденсата моноокиси кремния в вакууме от угла падения молекулярных пучков. Труды МВТ/“ им. Баумана, М., 1970, № 135,с. 157−162.
  89. .А., Сергеев В. Н. 0 форме поверхности планоид-ного зеркала без оси симметрии и возможности его изготовления вакуумной асферизацией. Труды МВТУ им. Баумана,
  90. М., 1973, № 155, с. II7-I24.
  91. .А., Сергеев В. Н. Распределение конденсата моноокиси кремния от протяженного источника. „Оптико-механическая промышленность“, 1978, $ 6, с» 49−51.
  92. E., Giakomo P. «Applied Optics», 1966, 5, p.63.
  93. K.H. «Ninth National Symposium on Vacuum Technology Transactions», New York, 1962, p.111.
  94. K., Donghty D. «J.Vacuum S.ci.and Technol.», 1966, 3, p.264.
  95. O’Brien B., Eussel T.A. «Journal of the Optical Society of America», 1934, 24, p.54.
  96. G. «Vakuum Technik», 1981, v.30, N 3, S.67.
  97. Dobrowolski I., Wenstein.- «Nature», 1955, vol.175, N 4458, p.646.
  98. E.A., Piatt I.E. «Eev.Sci.Instr.», 1937, 8, p.505.
  99. Gabla L., Lee F., Niewodniczanski «Acta Phys. PolonV, 1963, 23, p.255.
  100. Giacomo P., Roizen-Dossier B., Roizen S.-«I.Phys."(Paris), 1964, 25, p.285.
  101. A.- «Optik», 1971, 32, N 6, S.585.
  102. L. Steckelmacher W. «Vacuum», 1952, 2, p.346.
  103. G.- «Ann.Physik». Leipzig, i960, 5, S.397.
  104. G.- «Optik», 1961, 18, S.358.
  105. Koppelmann G., Vosskuhl er W. «Optik», 1965, 23, S.181.
  106. K.- «Optik», 1961, 18, S.549.
  107. P.H., Eing I. «Optica Acta», 1955, 2, p.42.'
  108. A.- «Eev.romanic Phys.», 1967, 12, p.817.
  109. R.P., Ramsay I.V.- «Applied Optics», 1974, vol.15, N 11, p.2685.
  110. Papini F. jBazan H.- «Rev. d1optique», 1967, 46, p.152.
  111. D.L. «Applied Optics», 1965, 4, p.987.
  112. SawakL T., Iwata M., Katsube S., Hoza Z.- «J.Phys.», 1964, 25, p.258.119» Schulz L.G.- «Journal of the optical Society of America», 1947, vol.57, p.549t 509.
  113. L.G. «Journal of the Optical Society of America», 1948, vol.58, H 5, p.452.
  114. I., Gaviola E. «Journal of the Optical Society of America», 1956, vol.26, N 4, p.155.
  115. S.- «Thin Solid Films», 1979, vol.56, IT 5, P"521.
Заполнить форму текущей работой

Сдать сессию!