Бакалавр
Дипломные и курсовые на заказ

Управление ростом кристаллов арсенидов галлия и индия путем низкоэнергетических воздействий

Диссертация: Управление ростом кристаллов арсенидов галлия и индия путем низкоэнергетических воздействий
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Ъ управления технологическими процессами" в г. Челябинске в 1990 году, на Ш Всесоюзной конференции «Моделирование роста кристаллов» в г. Риге в 1990 году, Международной конференции «Пространственные группы симметрии и их современное развитие» в г. Ленинграде в 1991 году, VIII Всесоюзной конференции по росту кристаллов в г. Харькове, 1992 г, Конференции по электронным свойствам материалов в… Читать ещё >

Содержание

  • -Гр ¦
  • 1. Введение
  • Глава 1. Низкоэнергетические воздействия и формирование неоднородностей при выращивании монокристаллов полупроводников направленной кристаллизацией (анализ литературы)
    • 1. 1. Возможности и механизмы управления ростом кристаллов. ~
    • 1. 2. Исходные уравнения для математического описания процессов — а &, кристаллизации
    • 1. 3. Подходы к решению и упрощения гидродинамической задачи. ' ^ ~
    • 4. Подходы к решению и упрощения гидродинамической задачи
      • 1. 5. Моделирование как средство изучения влияния конвекции на — li -однородность при выращивании монокристаллов направленной кристаллизацией
      • 1. 6. Моделирование и решение задач оптимального управления. -?3 ¦ 1.7 .Проблема идентификации
        • 1. 7. 1. Критерии идентификации
        • 1. 7. 2. Классификация объектов, задач и методов идентификации. ~ ^ ~
        • 1. 7. 3. Требования, предъявляемые к методам идентификации
        • 1. 7. 4. Подходы к решению задачи идентификации. — %
      • 1. 8. Условия роста и формирование неоднородное гей монокристаллов
        • 1. 8. 1. Продольные неоднородности. — М
        • 1. 8. 2. Поперечная сегрегация примесей. 'II
        • 1. 8. 3. Способы уменьшения продольных неодиородностей. ~ 33 ~
      • 1. 9. Микронеоднородности монокристаллов. -1.9.1. Механизмы формирования микродефектов. ~ 37 «
      • 1. 10. Результаты расчетов нестационарной конвекции
  • Глава 2. Управление ростом однородных кристаллов на основе принципов — 45-нелинейной динамики
    • 2. 1. Проблема идентификации в моделировании нестационарных систем
  • Глава 3. Определение условий устойчивого монокристаллического роста при -6/ выращивании монокристаллов полупроводников по методу Чохральского
    • 3. 1. Методика выбора тепловых условий выращивания монокристаллов. -3.1.1. Расчет градиентов температуры в кристалле и расплаве
      • 3. 1. 2. Экспериментальное исследование тепловых полей при выращивании -С./-монокрис галлов арсенидов галлия и индия. Выбор конструкции теплового узла
      • 3. 1. 3. Методика исследования тепловых полей. .- ^ 3.1.4. Оптимизация условий выращивания монокристаллов с использованием идентификационных моделей
    • 3. 2. Двойникование при выращивании монокристаллов арсенидов индия и ¦ галлия и фосфида индия
    • 3. 3. О механизме роста монокристаллов соединений, А В из расплава. -3.3.1. Анализ механизмов роста и расчет переохлаждения
    • 3. 4. Экспериментальное определение переохлаждения в расплаве при — 53 выращивании монокристаллов
    • 3. 5. Механизм роста и морфология кристаллов
  • Выводы из главы

Глава 4. Управление ростом кристаллов при выращивании по методу — Щ-Чохральского с помощью динамических изменений параметров процесса. 4.1. Экспериментальное исследование температурных полей -кристаллизационных сред у границы раздела кристалл — расплав — газ в процессе формирования монокристаллов при изменении скоростей вращения кристалла и тигля.

4.1.1. Исследование динамических характеристик тепловых полей.

4.1.2. Влияние динамических факторов управления процессом на -/ад распределение температуры в расплаве у фронта кристаллизации

4.1.3. Управление градиентами температуры в-расплаве при выращивании -Щ, монокристаллов по методу Чохральского.

4.1.4. Управление градиентами температуры в расплаве с помощью «активны» экранов.

4.2. Параметрическое исследование гидродинамических процессов в ~{lf расплаве арсенида галлия при взаимодействии тепловой гравитационной конвекции и вращения.

4.2.1. Результаты параметрических исследований. — 4'Ьо

4.2.1.1. Анализ влияния тепловой гравитационной конвекции на колебания --щ-температуры в расплаве.

4.3. Режимы выращивания и однородность монокристаллов арсенидов галлия и индия.

4.3.1. Структурная неоднородность.

4.3.2. Влияние неоднородности распределения структурных точечных дефектов на характеристики полупроводниковых приборов.

4.4. Управление ростом кристаллов с помощью изменения скоростей -07 вращения кристалла и тигля.

4.4.1. Исследование флуктуации температуры в нодкристальной области при 453 изменении вращения кристалла и тигля.

4.5. Математическое моделирование течения и поля температуры в тигле при -Ш периодическом изменении вращения кристалла и (или) тигля.

4.6. Трехмерное моделирование потоков в расплаве при получении -tto~ кристаллов арсенида галлия с использованием экспериментальных данных по колебаниям температуры в подкристальной области.

4.6.1. Математическая модель и постановка задачи. — (bb

4.6.2. Тепловая гравитационная конвекция в осесимметричном приближении —. при отсутствии вращения.

Выводы из главы 3. — Ш

Глава 5. Управление ростом кристаллов с использованием низко й высокочастотных колебательных воздействий.

5.1.Экспериментальное и теоретическое исследование влияния модуляции температуры нагревателя на процессы роста монокристаллов арсенида галлия.

5.1.1. Методика экспериментов и моделирования.

5.1.2. Постановка задачи построения модели.

5.1.3. Система для физического моделирования процессов роста при -До? уменьшенной термогравитационной конвекции.

5.1.3.1 .Методика экспериментов. *"

5.1.3.2. Исследование оптической однородности монокристаллов с помощью теневого метода.

5.1.3.3. Анализ результатов экспериментов по кристаллизации тонких слоев. -ЯЗ

5.1.3.4. Математическое моделирование роста кристаллов при искусственных -?fg. колебательных воздействиях в режиме стационарного переноса.

5.2.Экспериментальное исследование влияния низкочастотных искусственных -W.2.-гармонических колебаний кристалла на однородность монокристаллов полуизолирующего арсенида галлия, выращиваемого по методу Чохральского.

5.2.1.Исследование поведения свободной поверхности расплава у границы фаз — Ш -при выращивании монокристаллов по методу Чохральского.

5.2.2. Особенности морфологии кристаллов, выращиваемых при низкочастотных возмущениях фронта кристаллизации.

5.2.3. Влияние амплитудно-частотных характеристик процессов выращивания ~ik£-кристаллов на канальные неоднородности и на полосчатое строение.

5.2.4. Дефекты структуры и низкочастотные колебательные воздействия. -Ш> ~

5.3. Коэффициенты распределения и равномерность радиального -Щ. распределения примесей.

5.4. Получение кристаллов в оптимальных условиях. — U5

5.5. Выращивание монокристаллов в ультразвуковом поле. -LU

5.5.1. Моделирование процесса взаимодействия ультразвуковой волны с, ^ расплавом в тигле.

5.5.2.Метод «Синтез-растворение диффузия» -X Ц

5.5.3. Кристаллизация по методу СРД в поле ультразвуковых колебаний. «j Ц -Выводы из главы 5.

Глава 6. Разработка математической базы и программного комплекса Ч1к) моделирования системы управления диаметром кристаллов с использованием низкоэнергетических воздействий.

6.1. Разработка математической модели объекта управления. '

6.2. Методика экспериментальных исследований и программа предварительной обработки экспериментальных данных.

6.3. Алгоритмы и программы параметрической идентификации.

6.4. Решение задачи управления.

6.5.Алгоритм работы программной модели. Зоо

Управление ростом кристаллов арсенидов галлия и индия путем низкоэнергетических воздействий (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Актуальность работы. Основным методом получения монокристаллов полупроводников в настоящее время является направленная кристаллизация расплавов. Наиболее широко в практической технологии монокристаллов полупроводников применяют способ вытягивания кристаллов на затравку, предложенный Чохральским. Однако, в большинстве случаев, монокристаллы, выращенные этим методом, недостаточно однородны по свойствам, что приводит к существенным потерям при использовании и ограничивает возможности микроминиатюризации электронных приборов. Бурное развитие технологии монокристаллов AUIBV пришлось на 60-ые годы, когда был заложен фундамент современной оптоэлектроники, СВЧ-техники и микроэлектроники. С тех пор объемы промышленного производства монокристаллов арсенида галлия непрерывно возрастали в основном за счет полуизолирующего материала не только для дискретных приборов, но и, особенно, цифровых и монолитных сверхвысокочастотных интегральных схем. Согласно прогнозу В. Б. Освенского производство пластин полуизолирующего арсенида галлия в 2000 году удвоится по сравнению с 1998 годом и достигнет 150 млн см2. При этом сохранится тенденция увеличения геометрических размеров слитков с повышением требований к параметрам материалов. В настоящее время по структурному совершенству и однородности монокристаллы полупроводниковых соединений существенно уступают элементарным полупроводникам — германию и кремнию. Это сдерживает развитие перспективных направлений приборостроения, дальнейшую микроминиатюризацию электронных устройств. В связи с этим, установление закономерностей формирования неоднородностей в процессе выращивания монокристаллов, разработка способов повышения их совершенства является актуальной научно-технической задачей. Решение этой задачи имеет и важное экономическое значение.

Целью работы было установление закономерностей устойчивого монокристаллического роста кристаллов полупроводниковых соединений (на примере арсенидов галлия и индия) при низкоэнергетических управляющих воздействиях и разработка способов повышения однородности и структурного совершенства с помощью этих воздействий.

Объекты и методы исследования. Выбор в качестве объекта исследований монокристаллов полупроводниковых соединений АШВУ обусловлен определяющим значением этой группы материалов для развития таких перспективных направлений как оптоэлектроника, СВЧ-техника, микроэлектроника в части сверхскоростных интегральных схем. Основой исследований служил экспериментальный материал, накопленный автором при создании технологий промышленного производства крупногабаритных монокристаллов арсенидов галлия и индия и разработках специализированного технологического оборудования.

В качестве метода повышения однородности и структурного совершенства монокристаллов была выбрана совокупность специальных периодических воздействий, которые В. И. Полежаев назвал «низкоэнергетическими». Термин отражает тот факт, что энергия этих воздействий невелика по сравнению с общей энергией системы выращивания. В основу теоретических исследований процессов роста кристаллов были положены как «классические» модели, основанные на уравнении Навье-Стокса, так и идеи и методы интенсивно развивающейся нелинейной динамики. В качестве воздействий впервые были использованы периодические искусственные изменения температуры у фронта кристаллизации путем изменения температуры нагревателя по определенному закону, акустические высокочастотные воздействия на расплав с помощью ультразвука, механические гармонические колебание кристалла и тигля с расплавом. Важным новым моментом работы являлось совместное использование этих воздействий.

Для решения задач, поставленных в работе был использован комплексный подход, включавший экспериментальное исследование процессов роста при точном контроле условий выращивания, оптимизацию этих условий на основе математических моделей, анализ свойств кристаллов в связи с условиями их получения. Именно результаты экспериментов являлись основой для количественной оценки теорий и создания практических моделей управления процессом на основе методов идентификации сложных нелинейных систем, к которым относится рост кристаллов по методу Чохральского.

Для контроля параметров монокристаллов были использованы методы металлографии, оптические методы контроля однородности, рентгеновский и спектральный микроанализ, методы контроля электрофизических свойств материалов.

Для достижения цели были поставлены следующие задачи:

1. Установить закономерности и определить особенности роста монокристаллов полупроводниковых соединений АШВУ по методу Чохральского при периодических колебательных воздействиях на расплав.

2. Разработать способы модельного описания и оптимизации процессов роста кристаллов, включающие низкоэнергетические воздействия.

3. Установить механизмы влияния низкоэнергетических воздействий на процессы роста, определить диапазоны оптимальных параметров этих воздействий.

4. Разработать программный комплекс управления ростом кристаллов с использованием низкоэнергетических воздействий на базе метода идентификации нелинейных систем автоматического управления.

Научная новизна.

1. С позиций теории нелинейной динамики установлены механизмы повышения однородности монокристаллов полупроводниковых соединений при выращивании из расплава за счет комплекса направленных низкоэнергетических воздействий, снижающих амплитуду колебаний температуры у фронта кристаллизации путем создания искусственных волн в расплаве, взаимодействующих с конвективными потоками. Определены возможности и условия повышения структурного совершенства и однородности монокристаллов по схеме «рост — плавление — рост», при искусственных колебаниях за счет «залечивания» дефектных участков кристалла. Разработаны идентификационные модели и установлены диапазоны оптимальных параметров низкоэнергетических воздействий, обеспечивающие получение монокристаллов с неоднородностью параметров по сечению не более 5%:

— воздействие «тепловой волной» — для промышленных систем выращивания кристаллов по Чохральскому — частота колебаний температуры нагревателя 0.001−0.1 Гц, амплитуда 2−6 градусов,.

— гармонические низкочастотные колебания кристалла и тигля с расплавом с частотой 0.01 — 5 Гц и амплитудой 0.1−2 мм,.

— ультразвуковые высокочастотные колебания, вводимые в расплав с частотой 0.4−1.2 МГц и амплитудой 0.01−0.1 мм.

2. Установлены новые закономерности образования двойников при выращивании монокристаллов арсенидов галлия и индия из расплава, связанные со скоростью изменения переохлаждения в подкристальной области и стехиометрией расплава. Определено, что для предотвращения двойникования скорость увеличения переохлаждения расплава при управляющих воздействиях не должна превышать 0,2 град/мин и отклонение от стехиометрии по содержанию легколетучего компонента в расплаве не должно превосходить 0,1%.

3. Установлено закономерное формирование полосчатой неоднородности монокристаллов в условиях стационарного тегою-массопереноса при кристаллизации слоев расплава толщиной 0.1−2 мм, обусловленное искусственными колебаниями в диапазоне частот 0.001 -0.1 Гц и амплитудой 0.1−2 мм. ti.

4. Предложена модель и разработана система двухканального автоматического управления процессом выращивания монокристаллов на основе управления температурой нагревателя и скоростями вращения кристалла и тигля с расплавом на основе методов параметрической идентификации систем автоматического управления с обратной связью по температуре расплава вблизи фронта кристаллизации. Практическая значимость. В результате исследований разработаны новые способы получения монокристаллов соединений AmBv, защищенные 27 авторскими свидетельствами и патентами. Использование изобретений по АС № 940 342, 1 279 280, 1 450 424, 581 679, 1 591 536, 1 566 805, 1 810 400 в серийной технологии получения монокристаллов арсенидов индия и галлия на заводе «Аметист» позволило:

— впервые ввести в технические условия Яе0.032.146ТУ гарантированную в пределах 5% однородность электрофизических параметров монокристаллов арсенида галлия.

— повысить коэффициент использования основных материалов в производстве с 42 до 92% за счет перекристаллизации немарочных частей слитков с использованием ультразвукового воздействия на расплав,.

— автоматизировать процесс выращивания на установках «Астра» за счет разработки математического обеспечения и новых программных комплексов, включающих специальные низкоэнергетические воздействия на процесс, что позволило увеличить выход годных кристаллов с 10−15% до 35−50% за счет повышения воспроизводимости процессов.

В результате исследований, выполненных в рамках программы «НаукаHACA» предложен ряд новых способов получения кристаллов в условиях микрогравигации с управлением на основе низкоэнергетических воздействий, которые вошли в предварительные программы исследований на МКС «Альфа».

С использованием монокристаллов арсенида галлия, полученных в результате выполнения работы в НИИПП (г. Томск) разработаны новые типы специальных приборов с улучшенными по сравнению с аналогами характеристиками.

Принципы использования низкоэнергетических воздействий для управления ростом реализованы в разработках нового поколения специализированного технологического оборудования для выращивания монокристаллов по темам «Кристалл» и «Кристалл-1» в НИИ «Изотерм» (г. Брянск).

Основные положения, выносимые на защиту:

1. Закономерности устойчивого монокристаллического роста кристаллов полупроводниковых соединений по методу Чохральского, определенные с помощью оригинальной системы мониторинга температуры вблизи поверхности кристаллизации.

2. Результаты оптимизации условий получения монокристаллов арсенидов галлия и индия с использованием методов динамического изменения скоростей вращения кристалла и тигля.

3. Механизмы и модели роста кристаллов полупроводниковых соединений, а iii г" v.

А В при низкоэнергетических управляющих воздействиях в виде «тепловых волн», низко и высокочастотных периодических колебаний кристалла и тигля с расплавом, ультразвуковых высокочастотных воздействий на расплав.

4. Математическая база и программный комплекс моделирования системы управления ростом кристаллов с одновременным использованием нескольких низкоэнергетических воздействий.

Апробация работы. Основные результаты, представленные в диссертации, были доложены и обсуждены на У-У1 Совещаниях по росту кристаллов и эпитаксиальных пленок полупроводников в 1980;1982 году в г. Новосибирске, III Всесоюзной конференции «Состояние и перспективы развития методов получения монокристаллов» в 1985 году в г. Харькове, УШ Всесоюзном Совещании «Чистые металлы» в 1988 году в г. Харькове, ХП Всесоюзном Совещании «Теоретические и прикладные проблемы создания систем.

1Ъ управления технологическими процессами" в г. Челябинске в 1990 году, на Ш Всесоюзной конференции «Моделирование роста кристаллов» в г. Риге в 1990 году, Международной конференции «Пространственные группы симметрии и их современное развитие» в г. Ленинграде в 1991 году, VIII Всесоюзной конференции по росту кристаллов в г. Харькове, 1992 г, Конференции по электронным свойствам материалов в г. Новосибирске в 1992 г&bdquoЕвропейском коллоквиуме «Fluid Phenomena in Crystal Growth», Франция, 1992 г., X, XI, ХП Международных конференциях по росту кристаллов в Сан-Диего (США) 1992г&bdquoГааге (Нидерланды) в 1995 году, Иерусалиме (Израиль) в 1997 году, Международном Аэрокосмическом Конгрессе в Москве в 1994 году, VIII Конференции по полуизолирующим кристаллам, А В в Варшаве в 1994 году, Второй Международной группе по моделированию роста кристаллов в Бельгии в 1996 году, П Международном Симпозиуме ученых и исследователей России и США по программе «Наука — НАСА» в г. Королеве в 1996 году, X Европейском и VI Российском симпозиуме по физическим наукам в микрогравитации в Санкт — Петербурге в 1997 году, I и П, IV Российском Симпозиуме «Процессы тепломассопереноса и рост кристаллов» в г. Обнинске в 1995 -1999 году, Ш Международной Конференции «Кристаллы, рост, свойства, реальная структура» в г. Александрове в 1997 году, Конференции Британской ассоциации по росту кристаллов в 1998 г., в Англии, семинарах кафедры материаловедения МГТУ им. Баумана, проблемном семинаре в Институте Проблем Механики РАН в г. Москве, XVIII International Union of Crystallography Congress and General Assembly in Glasgow, 1999, Third International Conference «Single Crystal growth, Strength Problems and Heat Mass Transfer, Obninsk, 1999., IV Международной конференции «Кристаллы, рост, свойства, реальная структура, применение, в г. Александрове, 1999, Конференции «Кремний-2000», Москва, Международнной школе-семинаре «Нелинейные задачи теории гидродинамической устойчивости и турбулентность» -2000.

Структура и объем диссертации

Диссертация состоит из введения, шести глав, заключения.

Выводы из главы 5.

1. Впервые разработан способ, определен механизм и предложена математическая модель управления конвективным тепло-массопереносом в расплаве при выращивании монокристаллов полупроводников по методу Чохральского с использованием тепловой волны, создаваемой в расплаве путем гармонических изменений температуры нагревателя. Определены оптимальные параметры искусственных возмущений — частота колебаний температуры нагревателя 0,001−0.1 Гц, амплитуда 2−6 градусов,.

2. Разработан способ физического моделирования процессов кристаллизации при уменьшенном влиянии термогравитационной конвекции за счет использования тонких слоев расплава. Впервые экспериментально показано, что низкочастотные периодические колебания в режиме стационарного переноса приводят к формированию примесных полос. Предложена математическая модель формирования полосчатой неоднородности монокристаллов в условиях стационарного переноса.

3. Установлена зависимость высоты капиллярного столбика расплава под затравкой от частоты и амплитуды низкочастотных искусственных колебаний. Предложена математическая модель процесса.

4. Предложен способ снижения слоистой неоднородности монокристаллов за счет искусственных колебаний у фронта кристаллизации, обеспечивающих выход на фронт кристаллизации плоской грани.

5. Установлено, что искусственные низкочастотные возмущения расплава у фронта кристаллизации повышают структурное совершенство слитков по механизму «рост — плавление — рост» за счет «залечивания» дефектных участков слитков.

6. Разработана система автоматического управления скоростью роста кристаллов на принципе эхолокации ультразвуковыми колебаниями поверхности кристаллизации. Установлен механизм и предложена модель снижения полосчатой неоднородности под действием ультразвука за счет образования у фронта кристаллизации стоячих волн путем взаимодействия подводимой и отраженной от поверхности кристаллизации волн.

Глава 6. Разработка математической базы и программного комплекса моделирования системы управления диаметром кристаллов с использованием низкоэнергетических воздействий.

В качестве примера использования результатов исследования влияния низкоэнергетических воздействий на процессы роста кристаллов приведем результаты разработки программного комплекса управления диаметром кристалла на основе методов идентификации объекта при использовании низкоэнергетических воздействий, которые, по-нашему мнению, являются наиболее простыми и универсальными при использовании в практической промышленной технологии.

Целью создания программной модели системы управления диаметром кристалла (СУДК) была разработка и отладка алгоритмов и программы управления диаметром кристаллов, обеспечивающих точность поддержания диаметра кристалла не хуже ±-1мм с однородностью параметров по сечению слитков не хуже 5%. Для достижения поставленной цели была создана математическая база, алгоритмы и программы средства решения задач моделирования объекта управления, его параметрической идентификации, автоматического управления процессом роста кристаллов и адаптации СУДК в целом.

6.1. Разработка математической модели объекта управления.

Известно, что объект управления (в рассматриваемом случае система управления установкой выращивания монокристаллов) производит преобразование входных сигналов в выходные сигналы X. С математической точки зрения его можно представить в виде элемента, осуществляющего отображение.

Ax (t)=y (t), (115) согласно которому каждому элементу y (t) из множества Y входных сигналов ставится в соответствие единственный, вполне определенный элемент x (t) из множества X выходных сигналов.

Задача разработки модели объекта управления заключается в определении оператора А, устанавливающего взаимно однозначное соответствие между входными и выходными сигналами.

Исследуемая система управления предназначена для поддержания в автоматическом режиме заданного значения диаметра растущего кристалла. Для вычисления его текущего значения единственным выходным контролируемым параметром СУДК установки, «Астра» для которой разрабатывался алгоритм управления, является масса растущего кристалла. По информации о приращении массы за интервалы наблюдения после несложных вычислений можно определить текущее значение диаметра кристалла d (t). таким образом выходным сигналом x (t) объекта управления можно считать диаметр кристалла в зоне кристаллизации.

Приращение массы кристалла и текущее значение его диаметра зависят от целого ряда параметров, которые либо вносят возмущения в процесс, либо используются для управления процессом роста [301−304]. Мы выделили три воздействия, оказывающие решающее влияние на выходной сигналтемпература нагревателя тигля TH (t), относительная скорость вращения кристалла и тигля W (t) и масса кристалла P (t), причем если температура нагревателя и относительные скорости вращения кристалла и тигля являются управляющими воздействиями, значение и закон изменения которых формируются системой управления, то P (t) является возмущающим воздействием, изменение которого в соответствии с динамическими свойствами объекта должно учитываться при формировании управляющего воздействия. Исходя из этого, можно записать:

A (TH, P) d (t) = TH (t)+W (t) (116).

Нетрудно доказать, что А (Тн, Р) является нелинейным дифференциальным оператором, если учесть однозначную алгебраическую связь <1(1-) с Рф. Кроме того, эти уравнения свидетельствуют о серьезных трудностях в определении аналитического выражения для оператора А (ТН, Р). Поэтому наиболее целесообразно использовать приближенное выражение для этого оператора. Наиболее простым способом построения этого приближения является использование возможностей его кусочно — линейной аппроксимации [305−306]. В соответствии с идеологией такого приближения нелинейного оператора, А в области его определения О., разбитой на подобласти линеаризации С2у, у=1, ш, можно записать: т.

А^ах,{Тп, Р) А, (117) причем аХТи, Р) = {Ыпи (1н, Р)} еО, <7у (Тн, Р) = 0при{Тн, Р).

Здесь Ау, у=1,гп есть линейный оператор, содержащий статическую (безинерционную) составляющую 8 и линейный дифференциальный оператор Ьу, т. е.

АуД0=8(Т, W, Р) + 1лс1'(1), у=1,т (119).

Заметим, что в этом случае д (1:)=с1ст + сРОО и математическая модель объекта в каждой подобласти Г2у<�еГ2, у=1,т, содержит, соответственно, два уравнениянелинейное алгебраическое, определяющее безинерционную составляющую:

1СТ =8(Тн, У/, Р) (120) и линейное дифференциальное уравнение, определяющее инерционную составляющую объекта:

ЬуёЧ^Т^'© (121).

Уточнение оператора Ьу, у=1,ш. Экспериментальные исследования процесса роста кристаллов арсенида галлия на экспериментальной установке «Астра» и обработка полученных данных позволили сделать вывод, что во всем допустимом диапазоне изменения входных сигналов и веса кристалла по своим динамическим свойствам в каждой подобласти Оу, у=1,ш объект управления эквивалентен апериодическому звену второго порядка с запаздыванием, т. е. может быть описан передаточной функцией вида:

Д"(Я) = «=1,т, (122) что соответствует описанию динамики объекта в каждой подобласти линеаризации 0> дифференциальным уравнением второго порядка, т. е. 1л> есть линейный дифференциальный оператор второго порядка с постоянными коэффициентами, однозначно определяемыми через параметры Ку, Т2у,.

6,2″ Методика экспериментальных исследований и программа предварительной обработки экспериментальных данных.

Экспериментальные исследования были выполнены на установке «Астра» с целью получения исходных данных для решения задачи параметрической идентификации, т. е. вычисления значений параметров уравнений (115), (116) математической модели объекта управления (активный эксперимент), а также для проверки адекватности программной модели системы реальным процессам управления и корректировки модели и алгоритмов управления (пассивный эксперимент).

Все эксперименты проводили на одной и той же установке с использованием одного и того же технологического процесса выращивания монокристалла арсенида галлия в предварительно определенных, близких к оптимальным, условиям. Технологический режим, состав и вес расплава и флюса, заданный диаметр кристалла и флюса были неизменными.

Управляющим воздействием, изменяющимся по заданному закону при проведении всех экспериментов было комбинированное изменение скоростей вращения кристалла и тигля в первые две минуты изменения режима с последующим изменением температуры нагревателя, если ошибка диаметра после первого управляющего воздействия не уменьшалась до заданного предела.

В качестве выходного параметра (отклика системы) в экспериментах использовали текущее значение веса выращиваемого монокристалла.

Остальные параметры процесса, влияющие на рост кристалла, являлись в экспериментах возмущающими воздействиями и для чистоты экспериментов было необходимо обеспечить стабильность их текущих значений и законов изменения в каждом эксперименте в соответствии с технологическим регламентом. Под одним экспериментом мы понимали технологический цикл от момента выхода слитка на заданный диаметр до получения кристалла номинального веса. В течение всего цикла обеспечивалось измерение и протоколирование текущих значений заданий регуляторов и веса растущего кристалла.

Серия экспериментов для определения статической зависимости включала 8 активных экспериментов, которые выполнялись по следующему алгоритму:

Шаг 1. Подготовить установку к работе.

Шаг 2. Разрастить кристалл до заданного диаметра ё и зафиксировать значение уставок на регуляторах.

Шаг 3. Изменяя значение регулятора скорости вращения кристалла с постоянной скоростью продолжать процесс выращивания до завершения технологического цикла, поддерживая текущие значения и законы изменения параметров, влияющих на процесс роста в соответствии с технологическим регламентом. Изменять и протоколировать текущие значения времени, положения регулятора, массу кристалла и остальные параметры. Шаг 4. По завершении технологического цикла обмерить полученный кристалл и с соблюдением масштаба вычертить его профиль. Шаг 5. Конец.

Для каждого из значений диаметра проводилось по три эксперимента с различными скоростями изменения скорости вращения кристалла.

По аналогичному алгоритму, только с изменением температуры нагревателя при неизменной скорости вращения кристалла и тигля также было выполнено 9 экспериментов.

Серия активных экспериментов по определению параметров динамической составляющей модели объекта управления, входящих в выражение (82) была выполнена по следующему алгоритму:

Шаг 1. Подготовить установку к работе.

Шаг 2. Изменяя задание на регуляторе довести диаметр кристалла до значения <1 = с! н — Ад', выдержать это значение диаметра (изменяя задание) до достижения кристаллом длины 1 и зафиксировать значение задания в этот момент.

Шаг 3. Ступенчато уменьшить значение задания на регуляторе на величину, позволяющую получить увеличение диаметра кристалла ориентировочно на Лс^АсГ + АсР". Выдержать установленное значение задания в течение времени переходного процесса.

Шаг 4. Ступенчато увеличить значение задания на регуляторе на величину, позволяющую получить уменьшение диаметра кристалла по аналогии с предыдущим шагом. Выдержать установленное значение задания в течение времени переходного процесса.

Шаг 5. Если время до начала формирования обратного конуса кристалла превышает удвоенное время переходного периода, то перейти к шагу 3.

Шаг 6. Завершить технологический цикл формирования кристалла.

Шаг 7. Обмерить полученный кристалл и с соблюдением масштаба вычертить его профиль.

Шаг 8. Конец.

Эксперименты по этому алгоритму были проведены при различных значениях длины кристалла, что позволяло получить требуемое множество областей линеаризации {Оу} Для обеспечения большей достоверности результатов серии экспериментов по первому и второму алгоритмам были проведены дважды. Пассивный эксперимент заключался в том, что в процессе промышленного производства измеряли и протоколировали текущее значение времени, значения входных и выходных параметров процесса по тому же технологическому регламенту, что и при проведении активных экспериментов.

Для предварительной обработки полученных экспериментальных данных с целью их подготовки к решению задач параметрической идентификации была разработана специальная программа PROREX, выполняющая функции протоколирования экспериментальных данных, коррекцию и восполнение экспериментальных данных, фильтрацию экспериментальных последовательностей и их дифференцирование, формирование рабочих файлов, графическое отображение экспериментальных зависимостей на любом этапе их обработки.

6.3. Алгоритмы и программы параметрической идентификации.

В соответствии с математической моделью объекта управления задача параметрической идентификации заключалась в определении статической зависимости и параметров динамической модели.).

Статическая зависимость представляет собой двухуровневую регрессионную модель, которая может быт построена в результате обработки экспериментальных данных, полученных при проведении серии экспериментов по разработанному алгоритму. Предварительная обработка этих данных, если учесть специфику эксперимента, должна заключаться в упорядочении величин THOi, i=l, i и Pj, и определении для каждой пары значений {THoi, Pj} соответствующих дискретных значений диаметра кристалла dCT. Это дает возможность установить взаимно однозначное соответствие между дискретными значениями величин Тн0, Р и dCT.

Как будет показано ниже, для решения задачи управления зависимость (122) целесообразно преобразовать к виду: Тно =Q (dcT, Р), (123) т. е. методами регрессионного анализа получить соответствующую аналитическую зависимость. Описанная выше предварительная обработка позволяет решить эту задачу этими методами и методом построения квазиоптимальных базисов (ПКБ). Причем, если зависимость (120) существенно нелинейна, то метод ПКБ позволяет получить ее приближение в среднем квадратическом в виде быстросходящегося полиномиального ряда.

Расчет параметров, характеризующих динамические свойства объекта, при применении метода ПКБ сводится к обращению интегрального преобразования экспериментально полученной импульсной переходной функции объекта. Для идентификации динамики объекта необходимо по экспериментальным данным определить импульсную переходную функцию каждой подобласти линеаризации, найти приближение для каждой из них в виде функции методом ПКБ и вычислить параметры передаточных функций по формулам (122).

Изложенные выше процедуры реализованы в специально разработанной программе параметрической идентификации РАМЕ), которая реализована при проведении практических разработок технологии производства монокристаллов арсенида галлия в ПО «Гранат» (г. Калуга).

6.4. Решение задачи управления.

Задача управления процессом выращивания монокристаллов была рассмотрена как задача терминального управления, которая заключалась в расчете такого входного воздействия на объект, которое переводило его из фактического фазового состояния в требуемое за определенное время. Под фазовым состоянием понимали совокупность данных — фазовых координат, характеризовавших состояние объекта. В нашем случае достаточно рассмотрения двух фазовых координат — диаметра кристалла ё и первой производной от диаметра кристалла по времени (Г. Следует различать желаемые фазовые координаты, т. е. те, которые хотелось бы иметь в данный момент времени d*, d'* и реальные фазовые координаты, характеризующие текущее состояние объекта d, d.

Предположим, необходимо перевести объект из состояния d, d' в состояние d*, а'* за интервал времени ty. Абсолютное изменение выходной координаты d-d* должно быть в пределах величины, позволяющей рассматривать объект в качестве линейного и, следовательно, использовать результаты его динамической идентификации согласно предыдущему параграфу.

Управляющий сигнал состоит из суммы статической составляющей Тно, Wo, обеспечивающих в установившемся режиме значений координат объекта dCT и динамических Твд, W^, переводящей объект из состояния {e=d-d=0- e'=d} в состояние {s*=d*-ds'*=d*}, т. е.

Тн^Тно+Тнд., W=Wh0 +Wm. (123).

Динамические составляющие этих функций искали в классе непрерывных функций — полиномов относительно времени, неизвестные коэффициенты которых определяются из конечных условий. Оказалось, что практически для обеспечения двух заданных конечных условий d*, d'* достаточно взять в качестве управляющей функции полином первой степени.

ТндЮ =Ad + Bdt, (124).

Параметры Ad и Bd были определены следующим образом: для конкретных значений Тн, Р запишем одно из выражений (87) в виде:

J-F (s) = ———(125).

Определив W (s), можем записать:

E (s)=W (s). Тнд (8), (126) где E (s), Тид (з) — изображения по Лапласу s (t) и Тm (t).

После несложных преобразований можно найти выражение для выходного сигнала и изображения по Лапласу:

Е (У) =.

127).

Используя обратное преобразование Лапласа можно записать:

8(0=1/[Е (8)].

128).

Для момента времени ^(у) тогда имеем: е (1у)=8*.

129).

Из системы уравнений (128) определяем параметры управляющего сигнала Ай,.

Суммарный сигнал управления на отрезке времени 1У будет определяться выражением:

Качество управления в решающей мере зависит от степени адекватности моделей реальному объекту. При отсутствии достаточно полной априорной информации о характеристиках управляющего объекта высокое качество управления можно обеспечить лишь при применении алгоритмов адаптации моделей к реальным условиям.

В данном случае, адаптация модели заключалась в уточнении нелинейной статической зависимости по данным штатной работы экспериментальной установки, т. е. по данным пассивного эксперимента, а также в уточнении по тем же данным параметров динамической модели используя для этих целей точное выражение для оригинала Е (8).

Твд (1)=Тно + Аа + Вй.1.

130).

6.5.Алгоритм работы программной модели.

Шаг 1. Начало.

Шаг 2. Задать значения констант: tnpвремя проведения процесса, tyminминимальный такт управления, T’min, Tmax — пределы изменения сигнала управления, ¿-доп — допустимое отклонение состояния объекта от заданного значения при применении статической адаптации. Шаг 3. Задать начальные значения переменных: t=0 — текущее время,.

Тндоя=0 — параметр статической адаптации. Шаг 4. Оценить текущее состояние объекта — измерить d, d, p. Шаг 5. Определить статическую составляющую сигнала управления Тн0, WHo по статической характеристике объекта (), соответствующей значениям d, р. Шаг 6. Принять ty=ty mm.

Шаг 7. Определить желаемое состояние объекта d* и d* через время ty.

Шаг Определить фазовые координаты начальной (текущей) и конечной желаемой) точек фазового пространства: е=0- e=ds*=d*-ds*=d*.

Шаг 9. Рассчитать управление Тнд = Ad + Bdx при те [0,ty], переводящее объект из состояния 8, е в состояние с*х*.

Шаг 10. Проверить вышел ли суммарный сигнал управления Тн=Тн0+Твд за допустимые пределы. Если ТН<�ТН щщ или ТН>ТН тах, увеличить интервал управления на ty mm, т. е. принять ty=ty + tymui и перейти к шагу 7. Шаг 11. Рассчитать параметры сигнала управления объектом на интервале ty:

Тн (т) — Тно+Твд+Т вдоп.

Шаг 12. Установить входной сигнал объекта в соответствии с найденным законом Тн (т).

Шаг 13. Если t>tnp, то перейти к шагу 17.

Шаг 14. Если (1-с1*<<1догъ рассчитать значение Тн доп. Для этого определить статическую составляющую сигнала управления Т*н0, соответствующую значениям (1*, р* и вычислить Тндоп = Тн0 — Т*но-Шаг 15. Принять 1=4+1. Шаг 16. Перейти к шагу 4.

Шаг 17. По полученным результатам работы уточнить статическую и параметры динамической модели (провести адаптацию модели) Шаг 18. Конец.

Изложенный алгоритм определяет разработанную программу TER.COM, обеспечивающую моделирование динамики работы системы управления диаметром кристалла установки выращивания монокристаллов по методу Чохральского, позволяющую осуществлять апробацию и уточнение математической модели объекта управления и отладку алгоритма управления с целью его реализации на конкретных установках в условиях массового производства. Программа использована при серийном выпуске монокристаллов арсенида галлия в соответствии с комплектом технологической документации) 011.0000.0005 на заводе «Аметист».

Заключение

.

В результате вьшолненных исследований:

1. Установлены закономерности роста кристаллов соединений АШВУ при искусственных управляющих воздействиях в виде динамического регулирования скоростей вращения кристалла и тигля, периодических изменениях температуры нагревателя с частотой 0.001−0. ГГц и амплитудой 2−6 градусов, гармонических низкочастотных колебаний кристалла и тигля с расплавом с частотой 0.01−5Гц и амплитудой 0.01−2 мм, ультразвуковых высокочастотных колебаний частотой 0.4−1.2МГц и амплитудой 0.01−0.1мм, обусловленные взаимодействием потоков и искусственными периодическими воздействиями, на основе которых разработана система автоматического управления процессом роста кристаллов с неоднородностью электрофизических параметров в сечении кристалла в пределах 5%.

2. Установлено, что образование двойников при выращивании монокристаллов арсенидов галлия и индия связано не только с величиной локального переохлаждения расплава, но и со скоростью изменения этого переохлаждения. Определен критический уровень переохлаждения расплава (около I градуса), приводящий к двойникованию. Установлено влияние скорости изменения переохлаждения расплава на вероятность двойникования и определены ограничения скоростей изменения параметров процесса при управлении ростом.

3. Разработан алгоритм и программа определения начальных тепловых и кинетических условий устойчивого монокристаллического роста и выбора конструктивного оформления теплового узла установки выращивания монокристаллов по методу Чохральского.

4. Определено, что механизм роста кристаллов арсенидов галлия и индия при выращивании по методу Чохральского может быть описан в рамках модели дислокационного роста на диффузной поверхности с переходом к нормальному росту по мере увеличения длины кристалла.

5. Впервые экспериментально определено, что зависимость оптической однородности монокристаллов от соотношения скоростей вращения кристалла и тигля имеет экстремальный характер, причем минимум неоднородности кристаллов соответствует минимальной амплитуде колебаний температуры в подкристальной области расплава.

6. В рамках трехмерной гидродинамической модели с использованием экспериментальных данных впервые определены критические числа (0г=5.106) появления колебаний температуры при тепловой грави тационной конвекции в расплавах полупроводников.

7. Впервые разработан и исследован способ повышения однородности монокристаллов путем создания в расплаве «тепловой волны» путем изменения температуры нагревателя по гармоническому закону. Установлено, что этот способ за счет механизма «рост — плавление — рост» обеспечивает повышение структурного совершенства и однородности слитков. Определены оптимальные параметры «тепловых воли» — частота 0.001−0.1Гц, амплитуда 2−6 градусов, обеспечивающие неоднородность в поперечном сечении монокристаллов в пределах 5%.

8. Предложена система физического моделирования процессов кристаллизации с использованием тонких слоев расплава. Впервые экспериментально установлена связь формирования полос роста с частотой и амплитудой искусственных изменений положения фронта кристаллизации в стационарном тепловом поле. Разработана модель процесса, показана применимость модели для анализа и оптимизации процессов в условиях стационарного переноса.

9. Разработан способ повышения структурного совершенства кристаллов по механизму «рост — плавление — рост» за счет искусственных гармонических колебаний кристалла и тигля в стационарном тепловом поле. Определены оптимальные параметры колебаний — амплитуда 0.01−2 мм, частота 0.015Гц.

10. Предложена классификация неоднородностей монокристаллов полупроводниковых соединений вызываемых искусственными возмущениями фронта кристаллизации регулярными воздействиями вибрационного типа. Разработаны способы снижения этих неоднородностей за счет оптимизации параметров искусственных воздействий.

11. Предложена модель процесса взаимодействия ультразвуковой волны с расплавом полупроводникового соединения в тигле, включающая образование стоячих волн у поверхности кристаллизации за счет взаимодействия подводимой и отраженной волны. Определены механизм и условия эффективного подавления флуктуации температуры у фронта кристаллизации за счет оптимизации частоты и амплитуды ультразвукового воздействия.

12. Разработана математическая база и программный комплекс моделирования системы управления ростом кристаллов с использованием динамических изменении скоростей вращения кристалла и тигля и температуры нагревателя.

13.С использованием научных принципов, определенных в настоящей работе, были разработаны технические решения, защищенные 27 авторскими свидетельствами и патентами, использованными в серийной технологии производства мошжриеташой арсеюгда инд ия по техническим условиям Яе0.032.063ТУ, монокристаллов арсешща галлия полуизолирукяцего и легированного по Яе0.032.112ТУ, Яе0.032.169ТУ на заводе «Аметист» ПО «Гранат» в г. Калуге, разработаны новые типы интегральных схем в НИИПП (г. Томск), новое поколение оборудования для роста кристаллов в НИИ «Изотерм», г. Брянск.

Показать весь текст

Список литературы

  1. В.Б. Состояние и основные пути развития технологии получения совершенных монокристаллов полупроводников, — В сб. Фундаментальные проблемы Российской металлургии на пороге XX1.века. Монография в 4-х томах, М., 1998 — с. 152−183
  2. Polezhaev V. I. Convective Processes in Microgravity: Overview of the Results and Interface with Space Experiments Moscow //Eds. R.K. Crouch, V.I. Polezhaev Washington — 1995, — P.71−78.
  3. Процессы реального кристаллообразования Под ред. Н. В. Белова. М., Наука, 1977 — 326с.
  4. Г. А. Автоматизация способа Чохральского с использованием математических моделей малой размерности. Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора технических наук // М., 1994 52с.
  5. Г. Выращивание кристаллов из расплава (Конвекция и неоднородности) — М., Мир, 1991 — 143с.
  6. М.Р., Паркер М. У. Рост кристаллов М., Мир, 1978 — 456с.
  7. Современная кристаллография в 4-х томах М., Наука, 1986 — 680с.
  8. В. А. Устойчивый рост кристаллов М., Наука, 1988 — 240с.
  9. Ishiaa М, Katano К, Kanubata М. Total simulation model of high pressure liquid encapsulated Czochralski crystal growth // J. Crystal Growth, 1990, v.99, 1, Pt.2 -p.707−712.
  10. Langlois W.E. Digital simulation of Czochralski bulk flow in a parameter range appropriate for liquid semiconductors // J. Crystal Growth, 1977, v.42 p.380−399.
  11. Kobayashi N., Arizumi Т., Computational studies on the convection caused by crystal rotation in a crucible // J. Crystal Growth, 1980, v.47 p.419−425.
  12. В.И. Гидромеханика и тепломассоообмен при росте кристаллов/ Итоги науки и техники. Механика жидкости и газа, т. 18, М., ВИНИТИ, 1984 -с. 108−268ы
  13. Muller G. Crystal growth from the melt: Convection and inhomogeneities in crystal growth from the melt In: Crystals: growth, properties and applications, Springer, 1988 — 506p.
  14. Muller G., Ostrogorsky A. Convection in melt growth.- Handbook of Crystal Growth, 1994, v.2 -p.711−819.
  15. В.Г., Захаров Б. Г., Никитин С. А., Полежаев В. И. Технологические эксперименты и математическое моделирование процессов гидродинамики и теплообмена при выращивании монокристаллов арсенида галлия//Изв. АН. СССР, МЖГ, 1998, № 1 с.134−142.
  16. Carruthers J.R., Thermal convection instabilities relevant to crystal growth from liquids. In: Preparations and properties of solid State Materials (Eds. W.R. Wilcox, R.A. Lefever) // Marcel Dekker, Inc. New York and Basel /1977. v.3 -p.1−121
  17. M. Подвигина Пространственно периодические эволюционные и стационарные решения трехмерного уравнения Навье — Стокса с ABC силой — М., Из-во МГУ им. Ломоносова, 1999 — 142с.
  18. .М., Мильвидский М. Г. Моделирование процесса перемешивания расплава при выращивании кристаллов по методу Чохральского //Кристаллография, т.6, вып.5, 1961 с.759−762.
  19. В.П., Ремизов O.A., Казимиров И. И., Федулов Ю. П. Некоторые особенности гидродинамики при выращивании кристаллов кремния методом Чохральского Научные труды ГИРЕДМЕТа, 1975 — с. 11−19.
  20. Polezhaev V.l. Hydrodynamics, heat and mass transfer during crystal growth // In: Crystal Growth, Properties and Applications, v. 10, Springer-Verlag, 1984 p. 248−259.
  21. В.И., Простомолотов А. И. Исследование процессов гидродинамики и тепломассообмена при выращивании кристаллов методом Чохральского //Изв. АН СССР, сер. МЖГ, № 1, 1981 с.55−65.
  22. B.C., Полежаев В. И., Простомолотов А. И. Течение вязкой жидкости в цилиндрическом сосуде при вращении диска // Изв. АН СССР. Сер. МЖГ, 5, 1985 с.33−40.
  23. А. В. Теплообмен в печах для роста кристаллов из расплава. Глобальные численные модели В кн. Численные методы в задачах тепломассообмена. ИМП РАН, М., 1997 — с.271−288.
  24. Д., Куо Б. Оптимальное управление и математическое программирование М.: Наука, 1975 — 279 с.
  25. И.Е. Статистическая теория систем управления в пространстве состояний М.: Наука, 1975 — 432 с.
  26. Ю.И., Ионнисиан А. Б. Частотный метод проектирования одного класса систем с переменными параметрами // Электричество 1967 — № 1-с. 43−54
  27. И.Е. Статистические методы проектирования систем управления.-М.: Машиностроение, 1969 270 с.
  28. А.А., Щаренский В. А. Прикладные вопросы оптимальной линейной фильтрации М.: Энергоиздат, 1982 — 192 с.
  29. B.C., Синицьш И. Н. Стохастические дифференциальные системы. -М.: Наука, 1985−560 с.
  30. М.Г., Освенский В. Б. Структурные дефекты в монокристаллах полупроводников М., Металлургия, 1984 — 256с.
  31. М.Г., Пелевин О. В., Сахаров Б. А. Физико-химические основы получения разлагающихся полупроводниковых соединений М., Металлургия, 1974 — 356с.
  32. Ю.М. Выращивание кристаллов методом вытягивания М., Металлургия, 1982 — 312с.
  33. В. Зонная плавка М., Мир, 1968 — 468с
  34. В.Н., Вольпян А. Е., Курдюмов Г. М. Направленная кристаллизация и физико-химический анализ М., Химия, 1976 — 200 с.
  35. В.И., Никитин С. А., Федюшкин А. И. Конвекция и распределение примеси в кристаллах при направленной кристаллизации в невесомости // В сб. Технологические эксперименты в невесомости. Свердловск, 1983 с. 124−140.
  36. Труды второго Российского симпозиума, Обнинск, 22−24 сентября 1997 г,-с.310−321.
  37. Ma Bichun, Wang Yonghong, Xu Xiaolin, Sum Tianliang. Preliminary Approach to VMLEC Semi Insulating GaAs // Rare metals, v. 11, 4, 1992 — p.287−290.
  38. Sabhapathy P., Salcudean M.E. Numerical study of Czochralski growth of silicon in an axisymmetric magnetic field // J. of Crystal Growth, 113, 1991-p.164−180
  39. Scheel H.J. Striations: an intrinsic problem? // From: First intern. School on Crystal Growth Technology. Beatenberg, Switzerland, Sept. 5−16, 1998, Book of Lecture Notes p.86−108.
  40. Lie K.H., Walker J.S., Riahi D.N. Melt motion in the float zone process with an axial magnetic field // J. of Crystal Growth, 109, (1991) p. 167−173
  41. Kozutaka Terashima, Jokji Nishio, Shoichi Washizuka, Masayuki Watanabe. Magnetic field effect on residual impurity concentrations for LEC GaAs crystal growth // J. Crystal Growth, 84 (1987) p.247−252.
  42. Series R.W., Hurle D.T.J. The use of magnetic fields in semiconductor crystal growth. // J. of Crystal Growth, 113 (1991) p.305−328.
  43. А.П., Полежаев В. И., Орса A.B. Гидродинамические процессы в методе Чохральского с плавающим тиглем Препринт № 369 ИПМ АН СССР, М&bdquo- 1989 — 52с.
  44. А.Я., Гнилов С. В. Расчеты процессов выращивания легированных монокристаллов М., Металлургия, 198 — 22с.
  45. Л.Н. Цифровые интегральные микросхемы на арсениде галлия -Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора технических наук, М., 1989 72с.
  46. М.Г. Особенности дефектообразования в бездислокационных монокристаллах полупроводников // Изв. ВУЗов, «Материалы электронной техники», № 3, 1998 с.4−12
  47. В.Т., Мильвидский М.Г.// Материаловедение 1998, № 5 с. 16−29.
  48. Witt A., Gatos Н., Microscopic Rates of Growth in Single Crystals Pulled from the Melt: Indium Antimonide // J. of Electrochem. Soc. 1981 p.70−75.
  49. Carlberg T. Some aspects on the formation of striations during crystal growth from the melt // J. of Crystal Growth, 85, (1987) p.32−39.
  50. Lu Y.C., Shian J J., Feigelson R.S., Route R.K. Effect of vibrational stirring on the quality of Bridgman grown CdTe — J. of Crystal Growth, 102, (1990) — p. 807 813.
  51. Alexander J. D., Amirondin S., Ouazzani J., Rozenberg F. Analysis of the low Bridgman Stockbarger crystal growth. Transient and periodic acceleration // J. of Crystal Growth, 113 (1991) — p.21−28
  52. Alexiev D., Buteher K.S.A., Tansley T.L. Vibration stirring of a liquid phase epitaxial GaAS melt // J. of Crystal Growth, 125 (1992) p. 378−380
  53. Caram R., Banan M., Wilcox W. Directional solidification of Pb-Gn eutectic with vibration // J. of Crystal Growth, 144 (1991) p. 249−254
  54. H.A., Жариков E.B., Мяльдун A.3., Нуцубидзе M.H., Простомолотов А. И. Физическое моделирование низкочастотных вибрационных воздействий кристалла на течение и теплообмен в методе Чохральского Препринт ИМП РАН № 543, М., 1995 — 68 с.
  55. Shyy Wei, Chen Ming-Hsiung. Interaction of thermocapillary and natural convection flows during solidification: normal and reduced gravity conditions // J. of Crystal Growth, 108, 1991 p. 247−261.
  56. Murray B.T., Coriell S.R., McFadden G.B. The effect of gravity modulation on solute convection during directional solidification // J. of Crystal Growth, 110, 1991 p. 713−723
  57. Tillberg E., Carlberg T. Semi-confined Bridgman Growth of Germanium crystals in microgravity // J. of Crystal Growth, 99, 1990 p. 1265−1272
  58. Muller G. A comparative study of Crystal Growth Phenomena Under Reduced and Enhanced Gravity // J. of Crystal Growth, 99, 1990 p. 1241−1257
  59. Witt A.F., Gatos H.C., Lichtensteiger M., Herman C.J. Crystal Growth and Segregation under Zero gravity: Ge // J. Electrochem. Soc.v.l 1, 1978 p. 1852
  60. Chernov A.A. How does the flow within the boundary layer influence morphological stability of a vicinal face? // J. of Crystal Growth, 118, 1990 p. 333−347
  61. Braun R. J, Davis S.H. Oscillatory instabilities in rapid directional solidification: bifurcation theory // J. of Crystal Growth, 112, 1991- p.670−690
  62. Ginde Rajid M., Myerson Allan S. Cluster size estimation in binary supersaturated solutions /7 J. of Crystal Growth, 116, 1992 p.41−47
  63. Ramagopal Ananth, Gill W.N. Self-consistent theory of dendrite growth with convection // J. of Crystal Growth, 108, 1991 -p.173−189
  64. Tarabaev L.P., Mashikhin A.Yu., Esin V.O. Dendritic crystal growth in supercooled melt // J. of Crystal Growth 114, 1991- p. 603−612
  65. Nobuyuki Kobayashi. Hydrodynamics in Czochralski growth computer analysis and experiments // J. of Crystal Growth, 52, 1981 — p. 425−434.
  66. Coriell S.R. McFadden G.B. Buoyancy effects on morphological instability during directional solidification // J. of Crystal Growth, 94,1989 p. 513−521.
  67. Masatoshi Saiton, Akira Hirata. Numerical calculation of the two-dimentional unsteady solidification problem // J. of Crystal Growth, 113, 1991- p. 147−156.
  68. Tewari S.N., Chopra H.A. Break down of a planar liquid-solid interface during directional solidification- influence of convection // J. of Crystal Growth, 118, 1992-p. 183−192.
  69. Lester H.J., Peric M. Numerical simulation of a 3-D Czochralski melt flow by a finite volume multigrid aigoritm // J. of Crystal Growth, 123, 1992 p.567−574.
  70. Zhengyi Xu, Chogru Huo, Peiwen Ge, Zhenhe Zhu. Characteristics of Crystal Growth from Solution: sealing lows // J. of Crystal Growth, 137, 1994 p.538−544.
  71. Brown R., Do Hyum Kim. Modeling of directional solidification: from Scheel to detailed numerical simulation // J. of Crystal Growth, 109,1991 p.50−65.
  72. Yen C.T., Tiller W.A. Dynamic oxygen concentration in silicon melts during Czochralski crystal growth. // J. of Crystal Growth, 113, 1991 p.549−556.
  73. Basil N. Antar. Convective instabilities in the melt for solidification mercury cadmium telluride//J. of Crystal Growth, 113, 1991 p. 92−102.
  74. Seppo A., Korpela I., Chait A., Mattiessen D. Lateral or radial segregation in solidification of binary alloy with a waved liquid solid interface // J. of Crystal Growth, 137, 1994 — p.623−632.
  75. Kaddeche S., Ben Hadid H., Henry D. Macrosegregation and convection in the horizontal Bridgman configuration // J. of Crystal Growth, 135, 1994 p.341−353.
  76. Wheeler A.A. Four test problems for the numerical simulation of flow in Czochralski crystal growth // J. of Crystal Growth, 102, 1990 p.691−695.
  77. А.Г., Полежаев В. И., Федосеев А. И. Численное моделирование переходного и турбулентного режимов конвекции на основе нестационарных уравнений Навье-Стокса Препринт ИПМ АН СССР, № 101, 1978 — 56с.
  78. Грязнов B. JL, Полежаев В. И. Численное решение нестационарных уравнений Навъе-Стокса для турбулентного режима естественной конвекции Препринт ИПМ АН СССР № 81, 1977 — 56с.
  79. А.В., Мильвидский М. Г. О механизме образования слоистой неоднородности в кристаллах арсенида галлия, выращиваемых методом Чохральского из-под слоя флюса Научные труды ГИРЕДМЕТа т. 67,1979 -с.43−48
  80. Л.И. Лекции по колебаниям М., Из-во АН СССР, 1955, 503с.
  81. М.И. Стохастические колебания и турбулентность // УФК, 1978, 125, № 1 с. 123−168
  82. Г., Пригожин И. Самоорганизация в неравновесных системах М., Мир, 1979−512с.
  83. Г. Синергетика М., Мир, 1980 — 520с.
  84. Turing A.M. The chemical bases of morphogenesis // Proc. Trans. Roy. Soc., London В., 1952, 237 p.37−72.
  85. С. П., Курдюмов С. П., Малинецкий Г. Г. Синергетика и прогнозы будущего. М.: «Наука», 1997- 320с.
  86. Ф.А., Теряев Е. Д., Булеков В. П. Динамика нестационарных линейных систем. М., Наука, 1967 — 344с.
  87. Ф.А., Теряев Е. Д., Булеков В. П. Динамика непрерывных линейных систем с детерминированными и случайными параметрами — М.- Наука, 1971.-286 с.
  88. Н.Д., Пупков К. А. Методы анализа и оптимизации нестационарных систем автоматического управления М., Из-во МГТУ им. Н. Э. Баумана -684с.
  89. A.A., Дубанский Ю. А., Копченова А. Н. Вычислительные методы для инженеров M : Высшая школа, 1994 — 544 с
  90. В. И. Радкевич A.B., Эйдельман Л. Г. Принципы управляемого вытягивания монокристаллов из расплава Обзорная информация НИИТЭХИМ, ВНИИ монокристаллов, 1977 — 68с.
  91. B.C. Автоматическое управление диаметром кристаллов в методе Чохральского. Процессы роста полупроводниковых кристаллов и пленок -Из-во «Наука», Новосибирск, 1981 с. 108−122.
  92. Э.Л. Современные методы контроля и управления процессом кристаллизации В кн. «Рост кристаллов», М., Наука, 1980 — с.304−313.
  93. B.C., Макеев Х. И., Шушков B.C. Структура и динамические характеристики САР радиуса полупроводниковых кристаллов, выращиваемых способом Чохральского // Цветные металлы, 1982, № 8 с.56−60
  94. С.Ф., Стадник П. Е., Тиман Б. Л. Некоторые особенности автоматизации процессов роста кристаллов методом Чохральского -Материалы электронной техники, ч.1, Новосибирск, 1983 с. 185−197.
  95. Кан Д. О морфологической устойчивости растущего кристалла В кн. Проблемы роста кристаллов., М., Мир, 1968 — с. 127−145.
  96. Л., Тиллер В. Влияние кинетики присоединения частиц к кристаллу на морфологическую устойчивость поверхности раздела фаз при кристаллизации расплава В сб. «Проблемы роста кристаллов», М., Мир, 1968-с. 157−177.
  97. В.А. Устойчивость процесса кристаллизации из расплава при капиллярном формообразовании «Рост кристаллов», М., Наука, 1980, т. 13 -с. 160−171.
  98. Т.А. Общие закономерности структурообразования межфазной границы при кристаллизации из расплавов В кн. Вопросы теории кристаллизации, ч.2, Рига, 1975 — с.36−42.
  99. Э.Х., Юферев B.C. Устойчивость границы фаз в цилиндрическом кристалле, вытягиваемом из расплава Препринт № 746 ФТИ им. Иоффе, Ленинград, 1982 -14с.
  100. Т., Кориел С., Чалмерс Б. Устойчивость формы кристалла в процессе роста, определяемого формой мениска Рост кристаллов, М., Наука, 1980, т. 13 — с. 180−190.
  101. Mullins W.W., Sekerka R.F. Stability of a planar interface during solidification of a dilute binary alloy // J. Appl. Phys., 1964, v.35 p.444−449.
  102. Surek T. Theory of shape stability in crystal growth from the melt // J. Appl. Phys., 1976, v.47, 10 p.4284−4393.
  103. В., Секерка P. Проблемы роста кристаллов Пер. с англ. М., Мир, 1963, с. 106.
  104. В.В. Массоперенос на поверхности кристалла вблизи границы его с расплавом и его влияние на форму растущего кристалла // Кристаллография, т.23, в.2, 1978 с. 249−256.
  105. В.в. Переохлаждение на грани, возникающей на округлом фронте кристаллизации // Кристаллография, т.17, № 5,1982 с.909−917.
  106. А.Я. Технология полупроводниковых материалов М., Металлургия, 1986 — 320с.
  107. В.В., Кузнецов Г. Д., Соколов И. А. Технология материалов электронной техники М., Металлургия, 1996 — 486с.
  108. Автоматизация процессов роста кристаллов Обзорная информация. НИИТЭХИМ, М., 1984 — 70с.
  109. С.С. Расчет термических напряжений в кристаллах, выращиваемых из расплава В кн. Вопросы теории кристаллизации, ч.2, Рига, 1975-с. 101−102.
  110. В.И., Инденбом В. А. Сопоставление напряжений и дислокаций в полупроводниках. В кн. Рост кристаллов, М., Наука, 1982 — с.34−42.
  111. В.Л., Освенский В. Б. Теоретическое и экспериментальное исследование возникновения напряжений и дислокаций при росте кристаллов В кн. Рост кристаллов, М., Наука, 1980 — с. 240−250.
  112. Milvidskii M.G., Bochkarev E.P. Creation of defects during the growth of semiconductor single crystals and films // J. of Crystal Growth, 1978, v.44, 1 -p.61−74.
  113. В.Г., Потепалов В. И. Исследование распределения температуры в тигле установки выращивания монокристаллов по методу Чохральского при использовании нагревателей различной формы /7 Электронная техника, сер. Материалы, вып.1, 1985 с.36−39.
  114. В.Г., Потепалов В. П. О тепловых условиях выращивания монокристаллов арсенида галлия большого диаметра // Электронная техника, сер. Материалы вып. 12, 1985 с.77−79.
  115. В.Г., Потепалов В. П. Оптимизация тепловых и кинетических условий выращивания монокристаллов арсенида галлия большого диаметра по методу Чохральского // Электронная техника, сер. Материалы, вып.7 1986 с. 48−51.
  116. М.Г., Освенский В. Б. Структурные дефекты в монокристаллах полупроводников М., Металлургия, 1984 — 256с.
  117. С.А., Кристаллохимический аспект технологии полупроводников Новосибирск, Наука, 1976 -240с.
  118. Shiovama S., Uemura С., Yamamoto A., Growth and crystal quality of InP crystals by the liquid encapsulated Czochralski technique // J. Electron. Mater., v. 10, № 5, 1981-p.941−956
  119. Dung-fu-Fang, Xiang-Xi-wang Growth and properties of InP single crystals // J. Crystal Growth, v.6, No.2, 1984, — p.327−332.
  120. Bonner W.A. Reproducible preparation of twin-free InP crystals using the LEC technique //Mater. Res. Bui.- v.15, 1980 p.63−72
  121. Bachman К.J., Buehler E., Liquid-encapsulating Czochralski pulling of InP crystals // J. of Electron Mat, 1975, v.4, No.2 p.398−405.
  122. В.Г., Антонов В. А. Двойникование при выращивании монокристаллов арсенида и фосфида индия из расплава // Электронная техника, сер. Материалы, 1990, вып.2 с.43−45.
  123. Chen Т Р., Chen F.R., Chuang Y.C., Quo Y D., Reng J.G., Huang T.S., Chen L.J. Study of twins in GaAs, GaP and InAs crystals // J. of Crystal Growth, 118, (1992) p.109−116.
  124. В.Г., Потепалов В. П. Двойникование при выращивании монокристаллов арсенида индия по методу Чохральского Сб. «Физика кристаллизации», Калинин, КГУ, вып.8 — с.50−52.
  125. Tower J.P., Tobin R., Pearah P.J. Ware R.M. Interface shape and crystallinity in LEC GaAs //J. of Crystal Growth, 114 (1991) p. 665−675.
  126. Yoshida S., Ozawa S., Kijima Т., Suzuki J., Kikuta Т., InP single crystal growth with controlled supercooling during the early stage by a modified LEC method // J. of Crystal Growth, 113 (1991) p.221−226.
  127. Iseler G.W., Liquid -encapsujated Czochralski growth of InP crystals // J. Crystal Growth, 1981, v.54 p. 16−20.
  128. Э.А. Статистическое исследование кинетики зарождения двойников Процессы синтеза и роста полупроводниковых кристаллов и пленок. Новосибирск, ч.2, 1975 — с.96−98.
  129. С.А. Образование двойников роста GaAs Арсенид галлия., Томск, ТГУ, 1968 — с.411−413.
  130. В.Г., Любалин М. Д., Потепалов В. П. О флуктуациях температуры расплава и компрессионного газа при выращивании монокристаллов методом Чохральского // Электронная техника, сер.6, «Материалы», вып. 11(210), 1985 с. 18−21
  131. А., Циммерли У. Особенности роста монокристаллов арсенида галлия В «Технология полупроводниковых соединений» под ред. А. Я. Нашельского. М., Металлургия, 1967 — с.219−223
  132. А. Рост кристаллов полупроводниковых соединений А3В5 на модели В «Полупроводниковые соединения А3В5″ под ред. Р. Виллардсона и X. Геринга — М, Металлургия, 1967 — 727с.
  133. В.В. Строение поверхности кристалла в модели Косселя Рост кристаллов. Т. Х, М., Наука, 1974 — 278с.
  134. Вол А.Е., Коган И. К. Строение и свойства двойных металлических систем Т. З, М, Наука, 1976−814с,
  135. М., Процессы затвердевания М., Мир, 1977 — 423с
  136. А.Р., Глазов В. М. Периодический закон и физические свойства электронных расплавов М., Наука, 1978 — 307с.
  137. М.П. Кристаллография М., Высшая школа, 1976 — 391с
  138. Современная кристаллография. Т. З, М., Наука, 1980 407с
  139. Кан Дж. Теория роста кристалла и движение границы раздела фаз в кристаллических материалах /У УФН, 1967, т.91, № 4 с.677−689.
  140. Кан Дж., Хиллинг У., Сиро Дж. Молекулярный механизм кристаллизации // УФН, т.91, № 4, 1967- с.691−719
  141. Merzhanov A.G. History of and new development in SHS // Ceram. Trans., 56 (special issue), 1995- p.3−25
  142. С.С. Многомерная теория горения макрогетерогенных систем -Диссертация на соискание ученой степени доктора хим. наук. Институт химической физики, 1987.
  143. Williams Т.A. Combustion Theory 2-nd Ed. Addison-Wesley, Menlo Park CA, 1965 -326 p.
  144. Long M., Bishop J., Nagabhushan J, Ruichert P, Smith C.D. Protein Crystal growth Review of Large Scale Temperature Induction method /V J. of Crystal Growth, 168, 1991 -p.233−243.
  145. Polezhaev V.I. Hydrodynamics, heat and mass transfer processes during crystal growth In: Crystals: Growth, Properties and Applications, v. 10, 1984 — p.236−241.
  146. Polezhaev V.I. Modelling of hydrodynamics, heat and mass transfer processes on the basis of unsteady Navier Stockes equations // Comput. Methods Appl. Mech. Engr. 115 (1994) — p.72−92.
  147. B.C., Панченко В. И., Соловьев С. В. Конвективный теплообмен в режиме смешанной конвекции на модели метода Чохральского -Теплофизика кристаллизации и высокотемпературной обработки материалов., Новосибирск, 1990 с. 162−189
  148. Sheel H.I., Muller Krumbhaar Н, Crystal pulling using ACRT. // J. Crystal Growth, v.49, 1980 — p.291−296.
  149. Masalov V.M., Emel’anenko G.A. Michailova A.B. Hydrodynamics and oscillation of temperature in single crystal growth from high temperature solutions with use of ACRT // J. of Crystal Growth, 119, 1992 p.297−302.
  150. Kakimoto K., Eguchi M., Watanabe H., Hibiya Т., Natural and forced convection of molten silicon during Czochralski crystal growth // J. of Crystal Growth, 94 (1989) p.412−420.
  151. Cartwright R., Ilegbusi O., Szekely J. A comparison of order-of-magnitude and numerical analyses of flow phenomena in Czochralski and magnetic Czochralski systems // J. of Crystal Growth, 94, (1989) p.321−333.
  152. Derby J.J., Xiao Q. Some effects of crystal rotation on large scale Czochralski oxide growth: analysis via a hydrodynamic thermal — capillary model // J. of Crystal Growth, 113, (1991) — p.575−586.
  153. Lan C.W., Kou S., Shortened floating zone crystal growth under normal gravity // J. of Crystal Growth, 119, (1992) p.281−291.
  154. Yen C.T., Tiller W.A. Oxygen partitioning analysis during Czochralski silicon crystal growth via a dopant marker and a simple transfer function modeling technique // J. of Crystal Growth, 109, (1991) p. 142−148.
  155. Lan C.W., Kou S. A simple method for improving the stability of float zones under normal gravity // J. of Crystal Growth, 118, (1992) p. 151−159.
  156. Gradel R.N., Kim S., Woodward T, Wang T. The effect of axial crucible rotation on microstructural uniformity during horizontal directional solidification // J. of Crystal Growth, 121, 1992 p.599−607.
  157. Okano Y, Fukuda T, Mirata A, Takano N., Tsukada T., Hozawa M. Numerical study on Czochralski growth of oxide single crystals //J. of Crystal Growth, 109, 1991-p. 94−98.
  158. Lan C.W., Kou S. Effect of rotation on heat transfer fluid flow and interfaces in normal gravity floating zone crystal growth // J. of Crystal Growth, 114, 1991 -p.517−535
  159. Mukherjee D., Prasad V., Dutta P., Yuan T. Liquid crystal visualization of the effects of crucible and crystal rotation on Cz melt flows // J. of Crystal Growth, 169, 1996 p.136−146.
  160. Kobayashi S., Miyahara S., Fujiwara T., Kubo T., Fuji war a H. Turbulent heat transfer through the melt in silicon Czochralski growth // J. of Crystal Growth, 109, 1991 p. 149−154.
  161. Seide A., McCord G., Muller G., Leister H.J. Experimental observation and numerical simulation of Wave patterns in a Czochralski silicon melt // J. of Crystal Growth, 137, 1994 p.326−334.
  162. Jones A. D.W. Flow in a model Czochralski oxide melt // J. of Crystal Growth, 94, 1989 p.421−432.
  163. Sackinger P.A., Brown R.A., Derby H. Intern // J. Numer. Methods Fluids, 9, 1989 p.453.
  164. Kwang Su Choe, Stefani J., Dettling В., Tien J. Effect of growth conditions on thermal profiles during Czochralski silicon crystal growth // J. of Crystal Growth, 108, 1991 p.262−276
  165. Kobayashi S., Miyahara S., Fujiwara T. Turbulent heat transfer through the melt in silicon Czochralski growth // J. of Crystal Growth, 109,1991 p.149−154.
  166. Grudel R.N., Kim S., Woodward Т., Wang T. The effect of axial crucible rotation on microstructural uniformity during horizontal directional solidification // J. of Crystal Growth, 121, 1992 p.599−607.
  167. Kosushkin V.G. Low energetic possibilities for control of crystal growth -NASA/RCA Science and Technical Advisory Council Research, Washington, 1996-p.6.
  168. Kosushkin V.G., Fitsukov M.M. Increasing the Homogeneity of Single Crystals of Undoped Semi-Insulating Gallium Arsenide for Integrated Circuits // J. of Advanced Materials, 2 (1), 1995 p.50−54.
  169. Kosushkin V.G., Polezhaev V.I. Experimental and numerical study of GaAs crystal growth under crystal and crucible rotation Second International
  170. Workshop on Modeling in Crystal Growth. Louvain-La Neuve, Belgium, 13−16 October 1996 p.36−40.
  171. В.Г., Власов В. Н., Крупный А. И. Однородность электрофизических свойств полуизолирующего арсенида галлия и условия его выращивания Конференция по электронным материалам, Новосибирск, 9−15 августа 1992 г., Тезисы докладов — с.76−78.
  172. В.Г. О причинах неоднородности монокристаллов арсенида галлия, выращиваемых методом Чохральского Конференция по электронным материалам, Новосибирск, 9−15 августа 1992 года, тезисы докладов — с.260−261.
  173. В.Г., Потепалов В. П. О флуктуациях температуры расплава и компрессионного газа при выращивании монокристаллов методом Чохральского // Электронная техника, сер. Материалы, 1985, вып.5 с. 18−21.
  174. Polezhaev V.I.» Calculation of Cryatal Growth Process of GaAs ICHMT, Turkey, 1997, May, 22−27, Abstracts — p.67−69
  175. Bottago A., Zebib A. Three dimentional thermal convection in Czochralski melt growth // J. of Crystal Growth, 97, 1989 p.50−58.
  176. E.G., Картавых А. В. Метод измерения неоднородности электрофизических свойств арсенида галлия // Заводская лаборатория, № 5, 1987 с.22−26.
  177. В.В., Концевой Ю. А., Федорович Ю. Ф. Измерение параметров материалов и структур М., Радио и связь, 1985 — 260с.
  178. Motakef S. Fundamental considerations in creep based determination of dislocation density in semiconductors grown from the melt // J. of Crystal Growth, 114, (1991) -p.47−58.
  179. Motakef S., Kelly K., Koai K. Comparison of calculated and measured dislocation density in LEC grown GaAs crystals // J. of Crystal Growth, 113, (1991) — p.279−288.
  180. Elliot G., Chia Li Wei, Vanderwater D. Temperature gradients, dopants, and dislocation formation during low- pressure LEC growth of GaAs // J. of Crystal Growth, 85, (1987) — p. 59−68.
  181. Marshall D., Increased single crystal length in low pressure, LEC gallium arsenide // J. of Crystal Growth, 109, (1991) — p.218−222.
  182. Ono H. Axial dislocations in LEC grown In-doped GaAs crystals // J. of Crystal Growth, 102, (1990) — p. 949−956.
  183. Bourret E.D., Tabache M.G., Beeman J.W., Elliot A.G., Scott M. Silicon and indium doping of GaAs: Measurements of the effect of doping on mechanical behavior and relation with dislocation formation // J. of Crystal Growth, 85 (1987) p.275−281.
  184. Wu J., Mo P.G., Wang G.Y., Benakki S. Influence of In-doping on dislocations in liquid encapsulated Czochralski (LEC) growth gallium arsenide // J. of Crystal Growth, 102, (1990) -p.701−705.
  185. Suchet P., Duseaux M., Schiller C., Martin G.M. Generation and importance of precipitates in GaAs substrates V-th Conference on Semi-Insul. III-V Materials, Sweden, 1988 — p.483−488.
  186. Nakajima M., Fujii Т., Ishida K. A study of dislocations in In-doped LEC GaAs crystals // J. of Crystal Growth, 84, (1987) -p. 295−302.
  187. Jordan A.S., Von Neida A.R., Caruso R. The theoretical and experimental fundamentals of decreasing dislocations in melt grown GaAs and InP // J. of Crystal Growth, 76, (1986) p. 243−262.
  188. M., Боннэм M., Гутеро Б. Измерение разброса электрических свойств полупроводниковых кристаллов из арсенида галлия Перевод № 42 018 М., ВЦП, 1985 — 22с
  189. Г. В., Двойченко В. В., Тюрина О. В., Хандаров П. А. Исследование распределения структурных дефектов в полуизолирующем арсениде галлия // Электронная техника, сер. Электроника СВЧ, вып.2 (396), 1987 с.28−31
  190. В.И., Гришина С. П., Пугачев В. В., Степанцова И. В., Скаковская Н. В. Однородность распределения электрических свойств по длине и сечению кристаллов полуизолирующего арсенида галлия // Электронная техника, сер. Материалы, вып.6 (277), 1987 с48−53
  191. Г. И. Структура и электрические свойства зернограничных дислокаций в германии // Изв. АН СССР, сер физическая, т.51., № 4, 1987-с.780−785.
  192. Ю., Григорьев Ю., Капсукаускас В., Осве некий В.Б., Стораста Ю. Микрооднородность в полуизолирующем арсениде галлия: неравновесные явления переноса// Лит. Физ. Сб., 27, № 5, 1987- с.528−537.
  193. A.B., Степанцова И. В., Освенский В. Б., Гришина С. П. Изменение электрических параметров полуизолирующего арсенида галлия при термообработке//ФТП, т.23, 1989- с. 1787−1795.
  194. Stirland D.J., Brozel M.R. Microscopic Identification Electron Defects. Semicond Symp. San Francisco, Calif., Apr. 15−18 1985, Pittsburgh, PA, 1985 -p.54.
  195. Д., Хаазен П. Влияние пластической деформации на электрические свойства GaAs // Изв. АН СССР, сер. Физическая, т.51, № 4, 1987 с.687−696.
  196. К.А., Пашинцев Ю. И., Петров Г. В. Применение контакта металл -полупроводник в электронике М., Радио и связь, 1981 — 304 с.
  197. М.К., Никитин С. А., Полежаев В. И. Система и компьютерная лаборатория для моделирования процессов конвективного тепло- и массообмена В кн. Численные методы в задачах тепло и массообмена. М., 1997 — с.7−11.
  198. Griaznov V.L., Ermakov М.К., Kosushkin V.G., Czochraiski growth of gallium arsenide: technological experiments and numerical simulation Fluid Flow Phenomena in Crystal Growth, Euromech. Colloq. Assouis., France, 1992 — p. 15
  199. Н.В. Спектрально-конечно-разностный метод расчета турбулентных течений несжимаемой жидкости в трубах и каналах // Ж. вычислительной математики и мат. физики, т.34, № 6, 1994 с.909−925.
  200. Н.В. Статистические характеристики пристенной турбулентности // Изв. РАН, МЖГ, № 23, 1996 с.32−43.
  201. Ю.Н. Гидродинамическая неустойчивость и турбулентность в сферическом сечении Куэтта М.: Из-во МГУ, 1997 — 252с.
  202. Chossat Р, Iooss J. The Couette Taylor problem — Springer — Verlag, NY, 1994 — 362p
  203. Л.Д., Синай Я. Г. Исследование устойчивости стационарного решения одной системы уравнений плоского движения несжимаемой жидкости//ПММ, 25, 1961 с. 1140−1143.
  204. Armbruster D., Nicolaenco В., Smaoui N. Symmetries and dynamics for 2D Navier-Stokes flow // Physica D, 95, 1966 p. 81 -93
  205. She Z.S. Large- scale dynamics and transition to turbulence in the two-dimentional Kolmogorov flow Proceedings on current trends in turbulence research, AIAA series, 1988 — p.374−400.,
  206. С.Я., Шмидт B.M. Нелинейное взаимодействие конвективных волновых движений и возникновение турбулентности во вращающемся горизонтальном слое. // Изв. АН СССР, МЖГ, № 2, 1997 с.2−15
  207. Ф.В., Кляцкин В. И., Обухов A.M. Чусов М. А. Нелинейные системы гидродинамического типа М., Наука, 1974 — 320с.
  208. Rozhdestvensky B.L., Simakin I.N. Numerical simulation of two-dimentional ЩгЬи1епсе in a plane channel //Сотр. Fluids, 10,1981 p. 117−126.,
  209. She Z.S., Jackson E., Orszag S.A. Structure and dynamics of homogeneous turbulence: models and simulations Proc. R. Soc., London A., 434, 1991 — p. 101 124
  210. Kida S., Yamada т., Ohkitani K. A route to chaos and turbulence, Physica D, 37, 1989-p.l 16−125.
  211. Vincent A., Meneguzzi M., The spatial structure and statistical properties of homogeneous turbulence /7 J. Fluid Mech., 225, 1991 p. 1−20.
  212. .Л., Приймак В. Г. Численное моделирование двумерной турбулентности в плоском канале Препринт № 20, М., Институт прикладной математики имени М. В. Келдыша АН СССР, 1981 — 48с.
  213. .Л., Симакмн И. Н., Двумерные и трехмерные вторичные течения в плоском канале, их связи и сравнение с турбулентными течениями //Доклады АН СССР, 273, № 3, 1983 с. 553−558.
  214. Orseag S.A., Kells L.C. Transition to turbulence in plane Poiseuille and plane Couette flows /7 J. Fluid Mech., 96,1980 p.159−205.
  215. Orszag S.A., Patera A.T., Subcritical transition to turbulence in plane channel flows //Phys. Rev. Lett, 45, 19S0 p.989−993.
  216. Orszag S.A., Patera A.T., Calculation of von Karman’s constants for turbulent channel flow /7 Phys. Rev. Lett., 47, 1981 p.832−935.
  217. Orszag S.A., Patera A.T., Secondary instability of wall-bounded shear flows // J. Fluid Mech., 128,1983 p.347−385.
  218. В.И. Замечания о поведении течений трехмерной идеальной жидкости при малом возмущении начального поля скоростей // ПММ, 36,1972-с.255−262
  219. Dombre Т., Frish U., Greene J.M., Henon M., Mehr A., Soward A. Chaotic streamlines in the ABC flows // J. Fluid Mechanic., 167,1986 p.391−396.
  220. Harlow F.N., Welch J.E. Numerical calculation of time dependent viscous incompressible flow of fluid with free surface 11 Phys. Fluids, v. 8, 12, 1965 -p.2182−2189.
  221. Williams G.P. Numerical integration of the three-dimentional Navier-Stocks equations for incompressible flow // J. Fluid Mech., v.37, 1969- p.727−750.
  222. Chaos and other in nature Ed. By H. Haken, Belc, 1989 — 271p.
  223. T.C., Курдюмов С. П., Малинецкий Г. Г., Самарский А. А. Нестационарные структуры и диффузионный хаос М., Наука, 1992 — 502с.
  224. Belladhok L., Malinetskii G., Tricks of Jokers on one-dimentional maps Proc. 5 Int. Specialist Workshop Nonlinear Dynamics of Electronic Systems, Moscow, 1997 — p.40−45
  225. И.В., Маневич П. И. Асимптология: идеи, методы, результаты -М., Аслан, 1994 252с.
  226. Buckle U., Schafer М. Benchmark results for the numerical simulation of flow in Czochralski crystal growth // J. of Crystal growth, v. 126,1993 p.682−694.
  227. M.K., Никитин C.A., Полежаев В. И. Система и компьютерная лаборатория для моделирования процессов конвективного тепло- и массообмена // Изв. РАН, МЖГ, № 3, 1997- с.22−37.
  228. Polezhaev V.I. Modeling of hydrodynamics, heat and mass transfer processes on the basis of unsteady Navier-Stokes equations- Applications to the material sciences at earth and microgravity // Comput. Methods Appl. Mech. Engr., v. 115, 1,1994 p.79−92.
  229. Monti R., Langsbein D., Favier J.J., Influence of residual accelerations on fluid physics and material science experiments Fluid Sciences and Materials Science in Space. Ed. H.U. Walter, Springer, 1987 — p.637−680
  230. Carson D.J., Witt A.F. Microsegregation in conventional Si-doped LEC GaAs // J. of Crystal Growth, v. 108, No.3−4, 1991- p.508−518.
  231. Анализ и оптимальный синтез на ЭВМ систем управления Под ред. А. А. Воронова и И. А. Орурка. -М.: Наука, 1984 — 344 с.
  232. К.А., Егупов Н. Д., Трофимов А. И. Методы теории автоматического управления Из-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 1998 т — 562с
  233. А.А., Дубанский Ю. А., Копченова А. Н. Вычислительные методы для инженеров М.: Высшая школа, 1994 — 544 с.
  234. .Г., Косушкин В.Г.,. Никитин С. А, .Полежаев «В. И. Технологические эксперименты и математическое моделирование процессов гидродинамики и теплообмена при выращивании монокристаллов арсенида галлия//МЖГ, №>1, 1998 с. 134−142.
  235. Lariglois W.E. Conservative differencing procedures for rotationally symmetric flow with swirl // Comput. Methods in Appl. Mech and Engng., No.3, 1981-p.315−333.
  236. Hayakawa Y., Nagura M., Kumagawa M. Exclusion of rotational striations in pulled crystals by an improved Czochralski method // Semicond. Sci. Technol., v.3, 1988,-p.372−376.
  237. В.И., Бунэ А. В., Верезуб Н. А. Математическое моделирование конвективного тепло- и массообмена на основе уравнений Навье-Стокса -М., Наука, 1987, 271с.
  238. Е.В., Мяльдун А. З., Простомолотов А. И., Толочко Н. К. исследование конвективных потоков изотермической жидкости в методе Чохральского, вызванных низкочастотными вибрациями кристалла -Препринт № 28 Института общей физики РАН, М., 1993 38с,
  239. П.И. Формирование столбика расплава при выращивании монокристаллов по методу Чохральского Материалы VII Совещания по выращиванию профилированных монокристаллов по методу Степанова. Ленинград, 1984 — с. 123−128
  240. Г. Н. Рост кристаллов в ультразвуковых полях Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора технических наук. М., МТУ им. Ломоносова, 1996 — 48с.
  241. Kozhemyakin G.N., Kosushkin V.G., Kurochkin S.Yu. Growth of GaAs crystals pulled under the presence of ultrasonic vibrations // J. of Crystal Growth, v.121, No. 1−2, 1992 p.240−242.
  242. Tsuruta Takya, Hagakawa Josuhiro, Kumagawa Masoshi. Effect of ultrasonic vibrations on the growth of InxGa).xSb mixed crystals // Jap. J. Appl. Phys., Pt. l, -27 Suppl. No.27−1,1988- p.47−49.
  243. .А., Хавский А. И., Дубровик H.H. Воздействие мощного ультразвука на процессы синтеза и выращивания кристаллов типа А2Вб // Акустический журнал, т.23, вып. 1, 1976- с. 141−142.
  244. Г. А., Солоеин А. В. Машукян С.Р. Рост кристаллов при акустическом воздействии Московский институт хим. машиностроения, М&bdquo- 1988, (Деп. ВИНИТИ № 7923−1288, 04.11.88).
  245. Hayakawa J., Sone J., Tatsumi К., Kumagawa M. Effect of ultrasonic vibrations on InSb pulled crystals // J. of Appl. Phys., v.21, No.9, 1982 p. 1273−1277.
  246. С.Ч., Габриэлян B.T., Патурян C.B., Простомолотов А. И. Экспериментальное и теоретическое исследование влияния гидродинамических процессов на форму фронта кристаллизации // Кристаллография, т.39, 1994 с. 121−131.
  247. Т.Х. Кристаллизация металлов и сплавов в ультразвуковом поле Алма-Ата, Наука, 1980 -183с.
  248. А.П. Влияние ультразвука на кинетику кристаллизации М., Из-во АН СССР, 1962- 108с.
  249. Kosushkin V.G., Fitsukov М.М. Peculiarities of GaAs single crystals production for up-todate electronic materials Advanced Materials and Processes, Third Russian — Chinese Symposium, Kaluga, October 9−12,, Abstracts, 1995-p.17.
  250. В.Г., Гринько В. И. Способ получения полупроводниковых монокристаллических соединений А3В5 и устройство для его осуществления // А.С. СССР № 940 342 от 29.12.80 г.
  251. В.Г., Кожемякин Г. Н., Лысенко Н. И. Устройство для выращивания кристаллов //А.С. СССР № 1 566 805 от 12.07.88 г.
  252. В.Г., Курочкин С. Ю., Кизяев О. А., Большакова Г. В. Рост и свойства монокристаллов GaAs, выращенных с применением ультразвуковых колебаний Конференция по электронным материалам, Новосибирск, 9−15 августа 1992 г., Тезисы докладов — С. 173−174.
  253. В.Г., Кожемякин Г. Н. Выращивание монокристаллов арсенида галлия в ультразвуковом поле VIII Всесоюзная конференция по росту кристаллов, 2−8 февраля 1992г. Расширенные тезисы, т. З, ч.1 — с.249−250.
  254. В.Г., Фицуков М. М. О влиянии ультразвука, вводимого в расплав, на неоднородность свойств монокристаллов // Физика и химия обработки материалов, № 4, 1996 с. 122−128.
  255. Kosushkin V.G., Kozhemyakin G.N., Kurochkin S.Yu. Growth of GaAs crystals pulled under the presence of ultrasonic vibtations // J. of Crystal Growth, 121, (1992)-p.240−242.
  256. К., Аябе В., Моридзане Л., Усуи С., Ватанабе Н. Новый метод выращивания кристаллов GaP для светодиодов // ТИИЭР,, т.61, № 7, 1973-с.100−113.
  257. Патент США № 3 615 203, МКИ С01 В, 27/00, оп.26.10.71.
  258. Yamamoto A., Uemura С. InP single crystal growth by the synthesis, solute, diffusion method // Jap. J. Appl. Phys., v. 17, No.10, 1978- p.1869−1870
  259. Sugii K., Kubota E., Iwasaki H. Large sized InP single crystals by the synthesis, solute — diffusion technique // J. of Crystal Growth, v.46, 1979- p. 289 292.
  260. Новая технология изготовления поликристаллического фосфида галлия для индикаторов на СИД // Электроника, № 18, 1972 с.6−12.
  261. В.Г., Потепалов В. П., Лебедев В. В. Метод «синтез- растворение диффузия». Физико — химические особенности, технология, оборудование, свойства кристаллов // Электронная техника, сер. Материалы, вып. З, деп. Ц-4880, 1989 -.69 с.
  262. В.Г., Потепалов В. П., Стрельченко С. С. Исследование роста кристаллов арсенида галлия в условиях метода «синтез растворение -диффузия» // Электронная техника, сер. Материалы, вып.7, 1982 — с.35−37.
  263. В.Г., Стрельченко С. С., Хейфец В. Л. Эффективная скорость растворения арсенида галлия расплавом галлия при диффузионном ограничении скорости растворения // Электронная техника, сер. Материалы, вып. 1, 1981 -с.33−35.
  264. В.Н., Лебедев В. В., Косушкин В. Г. Выращивание кристаллов методом «синтез- растворение- диффузия» // Электронная техника, сер. Материалы, вып.1, 1982-с.36−40.
  265. М.М., Вигдорович В. Н., Емельянов A.B. Некоторые закономерности растворения арсенида галлия расплавом галлия // Электронная техника. Сер. Микроэлектроника, вып.5, 1973 с.76−80
  266. Франк Каменецкий P.A. Диффузия и теплопередача в химической кинетике — Наука, М., 1967 — 456с.
  267. Ito К. Growth of IiiP single crystals p-type by SSD method // J. of Crystal Growth, v.44,1978 -p.248−251.
  268. Антропов В. Ю, Кульчицкая T.B., Марков E.B., Картушина H.A. Выращивание кристаллов фосфида индия синтезом и диффузией в расплаве В кн. Технология полупроводниковых соединений., М., 1982 — с.23−28.
  269. В.Г., Вигдорович В. Н. Способ получения полупроводниковых монокристаллических соединений А3В5 //A.C. СССР№ 913 763 от 29.12.80 г.
  270. В.Г., Стрельченко С. С., Потепалов В. П. Способ получения монокристаллов полупроводниковых соединений А’В5 // А. С. СССР № 974 825 от 12.01.81 г.
  271. В.Г., Потепалов В. П., Лебедев В. В. Способ получения3 5монокристаллов полупроводниковых соединении A B // А. С. СССР№ 867 085 от 29.03.79 г.гы
  272. H.A., Смирнов В. А. Численный анализ процессов тепло и массопереноса при выращивании массивных монокристаллов из расплава -В кн. Рост кристаллов, М., Наука, т.13, 1980 с.191−197.
  273. Л.Г. Численное моделирование задачи управления выращиванием монокристаллов по методу Чохралъского // Доклады АН УССР, № 7, серия, А, 1982- с.73−76.
  274. Л.Г. Численное моделирование тепловых и концентрационных полей при выращивании монокристаллов по методу Чохралъского В кн. Электронное моделирование, Киев, Наукова Думка, 1983, № 2 — с.92−95.
  275. О.Г. Управление процессом выращивания кристаллов методом Чохралъского с помощью скорости вытягивания // Кристаллография. Т. 29, вып.З. 1984 -с.620−621.
  276. В.А. Системы автоматического управления технологическим оборудованием Л., Машиностроение, 1983 — 256с.
  277. Справочник по теории автоматического регулирования (под ред. A.A. Красовского) М., Наука, 1987 — 712с.
Заполнить форму текущей работой

Сдать сессию!