Установка «Отжиг ТМ

(к Главе 2, 3, 6)

Установка «Отжиг ТМ».

На Рис. П. 1.1 представлен общий вид (а) и принципиальная схема (б) автоматизированной установки «Отжиг ТМ» предназначенной для термической обработки кремниевых пластин и материалов в высоком вакууме и контролируемой среде рабочих газов — оксидирование, отжиг, сушка, диффузия, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур.

Рис. П. 1.1, а.

На Рис. П. 1.1,# представлена принципиальная схема ус тановки «Отжиг ТМ» для отжига подложек в вакууме с 3-х ка нальной газовой системой.

Рис. П. 1.1, б.

Основные особенности:

• — однореакторная электропечь резистивного нагрева;
• — кварцевый реактор;
• — газовая система (2…5) каналов;
• — безмасляная вакуумная система откачки;
• — микропроцессорное управление.

Технические характеристики:

• — внутренний диаметр реактора 150 мм с зоны реактора 300 лш;
• — диаметр обрабатываемых пластин до 100 лш;
• — количество одновременно обрабатываемых пластин — до 25;
• — диапазон рабочих температур — 300… 650 °C;
• — неравномерность распределения температуры по длине рабочей зоны — не более ± 2 «С;
• — нестабильность поддержания температуры в рабочей зоне — не более ± 1 °C;
• — время разогрева до 650 °C — не более 20 мин;
• — предельное остаточное давление в реакторе — до 10'⁴ Па;
• — электропитание (3 фазы, 380 В);
• — габаритные размеры 1020×1600×1800 лш.

Установка «Оксид ТМ»

На Рис. П. 1.2 представлен общий вид (я) и принципиальная схема (б) (базовая конструкция аналогична «Отжиг ТМ» с 2-х канальной газовой системой) предназначенной для автоматизированной термической обработки кремниевых пластин и материалов при нормальном атмосферном давлении в контролируемой среде рабочих газов — оксидирование, отжиг, сушка, диффузия, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур.

Технические характеристики:

• — внутренний диаметр реактора — 150 мм;
• — длина рабочей зоны реактора — 800 мм;
• — диаметр обрабатываемых пластин — до 100 лш;
• — количество одновременно обрабатываемых пластин — до 120;
• — диапазон рабочих температур — 300… 1100 °C;
• — неравномерность распределения температуры в рабочей зоне — не более ±2 °С;
• — нестабильность поддержания температуры в рабочей зоне — не более ± 1,5 °С;
• — время разогрева до 1 Ю0°С — не более 35 мин;
• — габаритные размеры 1020×2800×1800 мм.

Рис. П. 1.2, а

Рис. П. 1.2, б.

Установка «МВУ ТМ — Отжиг»

На Рис. П. 1.3, о представлен общий вид малогабаритной вакуумной установки «МВУ ТМ — Отжиг» для термического отжига и сушки.

Рис. П. 1.3, а.

На Рис. П. 1.3, б представлена схема реактора установки «МВУ ТМ — Отжиг».

Рис. П. 1.3, б Технические характеристики:

• — последовательная обработка подложек в одном технологическом цикле:
  • • 2 шт. — диаметром 150 мм;
  • • 4 шт. — диаметром 76 мм, 100 мм;
  • • 8 шт. — диаметром 60 мм.
• — нагрев подложек до температуры 150…450 °С;
• — подготовка поверхности подложек — нагрев и ионная очистка в плазме ВЧ-разряда;
• — автоматизированное управление от компьютера;
• — малогабаритная безмасляная вакуумная система откачки;
• — автономная система водяного охлаждения;
• — мощность потребления не более 3 кВт;
• — занимаемая площадь — 1,5 м².